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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5837178 | 化学気相堆積チャンバ用のライナアセンブリ | 2015年12月24日 | |
特許 5828836 | 陽極処理されたシャワーヘッド | 2015年12月 9日 | |
特許 5829376 | マルチカラム電子ビーム検査システムにおけるクロストークの軽減方法 | 2015年12月 9日 | |
特許 5829396 | 位相調節可能なコイルアセンブリを備えたデュアルモード誘導結合プラズマ処理システム | 2015年12月 9日 | |
特許 5823234 | 半導体ウェハを処理するリアクタ、そのリアクタのカバー部材、および、そのリアクタを作動する方法 | 2015年11月25日 | |
特許 5822823 | 膜厚不均一性および粒子性能を改善するCVD装置 | 2015年11月24日 | |
特許 5813005 | 広範囲ウエハ温度制御のための多機能ヒータ/冷却装置ペデスタル | 2015年11月17日 | |
特許 5813104 | 処理チャンバ洗浄ガスの乱流を誘発するための方法および装置 | 2015年11月17日 | |
特許 5813281 | バッチALDリアクタのための処理プロセス | 2015年11月17日 | |
特許 5813441 | 半導体ウェーハ処理用の高効率静電チャック組立体 | 2015年11月17日 | |
特許 5813874 | スパッタリング装置およびスパッタリング方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5814116 | 処理システム及び処理システムを運転する方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5815032 | フロー電池システム | 2015年11月17日 | |
特許 5808522 | シリコンを含有するエピタキシャル層の形成 | 2015年11月10日 | |
特許 5808814 | 3Dメモリに適用するPECVD酸化物−窒化物スタック及び酸化物−シリコンスタック | 2015年11月10日 |
127 件中 1-15 件を表示
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5837178 5828836 5829376 5829396 5823234 5822823 5813005 5813104 5813281 5813441 5813874 5814116 5815032 5808522 5808814
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11月22日(金) -
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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