特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第263位　162件（2014年：　0件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第236位　126件（2014年：　0件）

（ランキング更新日：2025年4月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5837178	化学気相堆積チャンバ用のライナアセンブリ	2015年12月24日
特許 5828836	陽極処理されたシャワーヘッド	2015年12月 9日
特許 5829376	マルチカラム電子ビーム検査システムにおけるクロストークの軽減方法	2015年12月 9日
特許 5829396	位相調節可能なコイルアセンブリを備えたデュアルモード誘導結合プラズマ処理システム	2015年12月 9日
特許 5823234	半導体ウェハを処理するリアクタ、そのリアクタのカバー部材、および、そのリアクタを作動する方法	2015年11月25日
特許 5822823	膜厚不均一性および粒子性能を改善するＣＶＤ装置	2015年11月24日
特許 5813005	広範囲ウエハ温度制御のための多機能ヒータ／冷却装置ペデスタル	2015年11月17日
特許 5813104	処理チャンバ洗浄ガスの乱流を誘発するための方法および装置	2015年11月17日
特許 5813281	バッチＡＬＤリアクタのための処理プロセス	2015年11月17日
特許 5813441	半導体ウェーハ処理用の高効率静電チャック組立体	2015年11月17日
特許 5813874	スパッタリング装置およびスパッタリング方法	2015年11月17日
特許 5814116	処理システム及び処理システムを運転する方法	2015年11月17日
特許 5815032	フロー電池システム	2015年11月17日
特許 5808522	シリコンを含有するエピタキシャル層の形成	2015年11月10日
特許 5808814	３Ｄメモリに適用するＰＥＣＶＤ酸化物−窒化物スタック及び酸化物−シリコンスタック	2015年11月10日

127 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5837178 5828836 5829376 5829396 5823234 5822823 5813005 5813104 5813281 5813441 5813874 5814116 5815032 5808522 5808814

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数