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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2015年 出願公開件数ランキング    第263位 162件 上昇2014年: 0件)

  2015年 特許取得件数ランキング    第236位 126件 上昇2014年: 0件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2015-522939 温度管理を備えるランプヘッドを有する基板処理システム 2015年 8月 6日
特表 2015-521794 超低誘電率誘電体フィルム向けの、酸素がドープされたパージを使用してのUV硬化効率の向上 2015年 7月30日
特表 2015-521368 アドバンスアニールプロセスにおいて粒子を低減させる装置および方法 2015年 7月27日
特表 2015-521371 マルチゾーン加熱を有する基板支持体のための方法および装置 2015年 7月27日
特表 2015-521375 流動性膜のための改善された緻密化 2015年 7月27日
特開 2015-134966 インサイチュチャンバ処理および堆積プロセス 2015年 7月27日
特表 2015-520911 高いイオン伝導率を有するピンホールの無い固体の状態の電解質 2015年 7月23日
特表 2015-520942 UV反応性接着フィルムを用いたレーザ・プラズマエッチングウェハダイシング 2015年 7月23日
特表 2015-520943 分散型静電チャック冷却 2015年 7月23日
特表 2015-520508 回折効果を用いた光学モデルの測定スペクトルへの適合 2015年 7月16日
特表 2015-519472 堆積チャンバ用のエッジリング 2015年 7月 9日
特表 2015-519477 事前に安定させたプラズマによるプロセスのためのスパッタリング方法 2015年 7月 9日
特表 2015-519725 シームレスのコバルト間隙充填を可能にする方法 2015年 7月 9日
特表 2015-519732 プラズマエッチングによるハイブリッドマルチステップレーザスクライビングプロセスを用いたウェハダイシング 2015年 7月 9日
特表 2015-519740 研磨のインシトゥ監視時にデータをフィルタリングするための線形予測 2015年 7月 9日

162 件中 76-90 件を表示

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2015-522939 2015-521794 2015-521368 2015-521371 2015-521375 2015-134966 2015-520911 2015-520942 2015-520943 2015-520508 2015-519472 2015-519477 2015-519725 2015-519732 2015-519740

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