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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2015-530484	粒子フリーの回転ターゲット及びそれを製造する方法	2015年10月15日
特表 2015-530737	高度なデバイスのウェハ上の粒子性能に対して化学的適合性のあるコーティング材料	2015年10月15日
特表 2015-530742	半導体処理のための流動可能な炭素	2015年10月15日
特表 2015-529748	低温アニールを用いる電気化学デバイス製造プロセス	2015年10月 8日
特表 2015-529938	同軸ＲＦフィード及び同軸シールドを有する対称誘導結合プラズマ源	2015年10月 8日
特表 2015-529969	マルチゾーン温度制御および多パージ機能を有するペデスタル	2015年10月 8日
特表 2015-529972	改善された制御のためにＤＣ支援ＲＦ電力を使用する半導体処理	2015年10月 8日
特表 2015-529984	ウェハ処理機器の化学制御機構	2015年10月 8日
特表 2015-529395	ＵＶチャンバを洗浄するための方法及びハードウェア	2015年10月 5日
特表 2015-529405	炭窒化ケイ素の選択的エッチング	2015年10月 5日
特表 2015-529007	気相化学曝露による低誘電率誘電体の損傷修復	2015年10月 1日
特表 2015-529009	物理的気相成長法による窒化アルミニウムの緩衝及び活性層	2015年10月 1日
特表 2015-529011	多孔性低誘電率膜の誘電率を低減させる方法	2015年10月 1日
特開 2015-172240	スパッタされた材料の層を形成するシステムおよび方法	2015年10月 1日
特開 2015-172242	原子層堆積窒化ケイ素膜のインシトゥ炭素及び酸化物ドーピング	2015年10月 1日

162 件中 31-45 件を表示

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2015-530484 2015-530737 2015-530742 2015-529748 2015-529938 2015-529969 2015-529972 2015-529984 2015-529395 2015-529405 2015-529007 2015-529009 2015-529011 2015-172240 2015-172242

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