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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件
（
2015年：第263位 162件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件
（
2015年：第236位 126件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-510945 | カルーセル原子層堆積のための装置および方法 | 2016年 4月11日 | |
| 特表 2016-510946 | 噴射器から基板までの間隙の制御のための装置および方法 | 2016年 4月11日 | |
| 特表 2016-510953 | インシトゥプロファイル制御（ＩＳＰＣ）を用いた残留物クリアリングの動的制御 | 2016年 4月11日 | |
| 特表 2016-510507 | 低収縮性誘電膜 | 2016年 4月 7日 | |
| 特表 2016-509985 | 基板用キャリア | 2016年 4月 4日 | |
| 特表 2016-510171 | 金属酸化物ＴＦＴの安定性向上 | 2016年 4月 4日 | |
| 特表 2016-510181 | マルチゾーンヒータにおける温度測定 | 2016年 4月 4日 | |
| 特表 2016-509751 | 石英の上部ドーム及び下部ドーム | 2016年 3月31日 | |
| 特表 2016-508935 | ウェブガイド制御ユニット、ウェブ処理装置、及びそれらを操作するための方法 | 2016年 3月24日 | |
| 特表 2016-509131 | 基板プロセスチャンバのためのフィン付きシャッターディスク | 2016年 3月24日 | |
| 特表 2016-508288 | 基板処理チャンバ構成要素用の熱放射バリア | 2016年 3月17日 | |
| 特開 2016-36017 | ガス流分布が改善された熱反応器 | 2016年 3月17日 | |
| 特表 2016-507644 | 蒸発器、堆積アレンジメント、堆積装置及びこれらを操作する方法 | 2016年 3月10日 | |
| 特表 2016-507645 | 誘電体材料蒸発のためのプラズマ強化堆積設備、堆積装置及びその操作方法 | 2016年 3月10日 | |
| 特表 2016-507656 | 隣接スパッタカソードを用いた装置およびその操作方法 | 2016年 3月10日 |
217 件中 181-195 件を表示
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2016-510945 2016-510946 2016-510953 2016-510507 2016-509985 2016-510171 2016-510181 2016-509751 2016-508935 2016-509131 2016-508288 2016-36017 2016-507644 2016-507645 2016-507656
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