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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件
(2015年:第263位 162件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件
(2015年:第236位 126件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6052906
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化学機械的研磨のスペクトルに基づく監視のための装置および方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6054314
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基板搬送及びラジカル閉じ込めのための方法及び装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6047327
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化学機械的研磨のスペクトルに基づく監視のための装置および方法 | 2016年12月21日 | |
特許 6049708
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マスクレス電解質堆積による薄膜バッテリ製造 | 2016年12月21日 | |
特許 6049720
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選択的窒化プロセスのための方法および装置 | 2016年12月21日 | |
特許 6050317
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ガス分配プレート表面を改修するための方法及び装置 | 2016年12月21日 | |
特許 6041833
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渦電流監視用研磨パッド | 2016年12月14日 | |
特許 6046128
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誘導結合プラズマ(ICP)リアクタ用動的イオンラジカルシーブ及びイオンラジカルアパーチャ | 2016年12月14日 | |
特許 6039545
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終点検出のためのスペクトル特徴部の動的または適応的な追跡 | 2016年12月 7日 | |
特許 6034311
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共有ポンプを備えた真空チャンバ | 2016年11月30日 | |
特許 6034546
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軽減システムの改善された操作方法及び装置 | 2016年11月30日 | |
特許 6030122
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終点検出のためのスペクトル特徴の適応的追跡 | 2016年11月24日 | |
特許 6030278
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電子デバイス製造システムの操作を改善する方法及び装置 | 2016年11月24日 | |
特許 6030636
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モデルに基づく、研磨のためのスペクトルライブラリの生成 | 2016年11月24日 | |
特許 6025722
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電気的な偏りを調整するためのプラズマ処理装置及びライナーアセンブリ、プラズマ処理方法 | 2016年11月16日 |
121 件中 1-15 件を表示
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6052906 6054314 6047327 6049708 6049720 6050317 6041833 6046128 6039545 6034311 6034546 6030122 6030278 6030636 6025722
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4月4日(金) -
4月4日(金) -
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
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4月11日(金) -
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