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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2016年 出願公開件数ランキング    第200位 217件 上昇2015年:第263位 162件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第268位 121件 下降2015年:第236位 126件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6052906 化学機械的研磨のスペクトルに基づく監視のための装置および方法 2016年12月27日
特許 6054314 基板搬送及びラジカル閉じ込めのための方法及び装置 2016年12月27日
特許 6047327 化学機械的研磨のスペクトルに基づく監視のための装置および方法 2016年12月21日
特許 6049708 マスクレス電解質堆積による薄膜バッテリ製造 2016年12月21日
特許 6049720 選択的窒化プロセスのための方法および装置 2016年12月21日
特許 6050317 ガス分配プレート表面を改修するための方法及び装置 2016年12月21日
特許 6041833 渦電流監視用研磨パッド 2016年12月14日
特許 6046128 誘導結合プラズマ(ICP)リアクタ用動的イオンラジカルシーブ及びイオンラジカルアパーチャ 2016年12月14日
特許 6039545 終点検出のためのスペクトル特徴部の動的または適応的な追跡 2016年12月 7日
特許 6034311 共有ポンプを備えた真空チャンバ 2016年11月30日
特許 6034546 軽減システムの改善された操作方法及び装置 2016年11月30日
特許 6030122 終点検出のためのスペクトル特徴の適応的追跡 2016年11月24日
特許 6030278 電子デバイス製造システムの操作を改善する方法及び装置 2016年11月24日
特許 6030636 モデルに基づく、研磨のためのスペクトルライブラリの生成 2016年11月24日
特許 6025722 電気的な偏りを調整するためのプラズマ処理装置及びライナーアセンブリ、プラズマ処理方法 2016年11月16日

121 件中 1-15 件を表示

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6052906 6054314 6047327 6049708 6049720 6050317 6041833 6046128 6039545 6034311 6034546 6030122 6030278 6030636 6025722

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