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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第200位　217件（2015年：第263位　162件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第268位　121件（2015年：第236位　126件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-122654	Ｂフィールド集中装置を使用する金属シャワーヘッドを備える誘導性プラズマ源	2016年 7月 7日
特表 2016-519208	ＥＰＩプロセスのための均一性調整レンズを有するサセプタ支持シャフト	2016年 6月30日
特表 2016-519213	フレキシブル基板のための堆積プラットフォーム及びその操作方法	2016年 6月30日
特表 2016-519329	アモルファス層極端紫外線リソグラフィブランク及びそのための製造・リソグラフィシステム	2016年 6月30日
特表 2016-519418	効率的な熱サイクリングのためのモジュール式基板ヒータ	2016年 6月30日
特表 2016-519419	固体光源アレイ用の熱管理装置	2016年 6月30日
特表 2016-519429	多層パッシベーション又はエッチング停止ＴＦＴ	2016年 6月30日
特表 2016-518697	ＧａＮベースのオプトエレクトロニックデバイスおよび電子デバイス用の酸素制御したＰＶＤＡｌＮバッファ	2016年 6月23日
特表 2016-518698	レーザアニールシステムにおいてエッジプロファイルを制御するためのカスタマイズされた瞳ストップ形状	2016年 6月23日
特表 2016-518699	強化されたプロセスの均一性および低減された基板の滑りのためのサセプタ	2016年 6月23日
特表 2016-518001	分離されたデバイス領域を形成するためのパターンをインプリントされた基板	2016年 6月20日
特表 2016-517469	半導体プロセスチャンバ内で使用するためのスパッタ源	2016年 6月16日
特表 2016-517614	簡易ランプ設計	2016年 6月16日
特表 2016-517633	蒸着で堆積されたフォトレジスト、及びそのための製造及びリソグラフィシステム	2016年 6月16日
特表 2016-517635	小ロット基板ハンドリングシステムのための温度制御システム及び方法	2016年 6月16日

217 件中 121-135 件を表示

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2016-122654 2016-519208 2016-519213 2016-519329 2016-519418 2016-519419 2016-519429 2016-518697 2016-518698 2016-518699 2016-518001 2016-517469 2016-517614 2016-517633 2016-517635

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