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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第207位 254件 (2016年:第200位 217件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第227位 136件 (2016年:第268位 121件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2017-514310 | ファセット付き内面を有する保持リング | 2017年 6月 1日 | |
特開 2017-95350 | ハロゲン含有プラズマに露出された表面の浸食速度を減じる装置及び方法 | 2017年 6月 1日 | |
特表 2017-512894 | プロファイル均一性を改善するためのコーナースポイラー | 2017年 5月25日 | |
特表 2017-512910 | 高周波(RF)および直流(DC)エネルギーを1つまたは複数の共通電極に結合させるためのキャパシタアセンブリ | 2017年 5月25日 | |
特表 2017-513221 | 基板処理のためのシステム、基板処理のためのシステム用の真空回転モジュール、及び基板処理システムを操作する方法 | 2017年 5月25日 | |
特表 2017-512375 | チャンバコーティング | 2017年 5月18日 | |
特表 2017-512379 | 安定化された高温堆積のためのガス冷却式基板支持体 | 2017年 5月18日 | |
特表 2017-512385 | ピクセル型温度制御式基板支持アセンブリ | 2017年 5月18日 | |
特開 2017-84793 | リチウムイオン電池電極フィルムの多孔率の変化を生み出す方法 | 2017年 5月18日 | |
特開 2017-85111 | 環状のバッフル | 2017年 5月18日 | |
特開 2017-85131 | 障壁表面上のコバルト堆積 | 2017年 5月18日 | |
特開 2017-85145 | レーザ処理システム内の粒子制御 | 2017年 5月18日 | |
特表 2017-511953 | 交換可能ランプ向けのアダプタ | 2017年 4月27日 | |
特表 2017-511974 | 射出アセンブリ付きの上方ドーム | 2017年 4月27日 | |
特表 2017-511979 | 多重荷電粒子ビームリソグラフィのためのピクセルブレンディング | 2017年 4月27日 |
255 件中 166-180 件を表示
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2017-514310 2017-95350 2017-512894 2017-512910 2017-513221 2017-512375 2017-512379 2017-512385 2017-84793 2017-85111 2017-85131 2017-85145 2017-511953 2017-511974 2017-511979
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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