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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第207位　254件（2016年：第200位　217件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第227位　136件（2016年：第268位　121件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-63212	誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）リアクタ用動的イオンラジカルシーブ及びイオンラジカルアパーチャ	2017年 3月30日
特表 2017-508303	マスキングされたエッジを有する支持リング	2017年 3月23日
特表 2017-507247	薄膜処理用途のための装置及び方法	2017年 3月16日
特表 2017-507338	任意の基板上での膜厚測定	2017年 3月16日
特表 2017-507477	アモルファスカーボンフィルムの中へのイオン注入による高エッチング選択性ハードマスク材料の開発	2017年 3月16日
特表 2017-507501	光学センサを使用したパルスプラズマのモニタリング	2017年 3月16日
特開 2017-55126	静電チャックの窒化アルミ誘電体の修復方法	2017年 3月16日
特表 2017-506703	キャリアによって支持された基板上に一又は複数の層を堆積させるためのシステム、及び当該システムを使用する方法	2017年 3月 9日
特表 2017-506817	シャドーフレームを除去するためのガス閉じ込め装置アセンブリ	2017年 3月 9日
特表 2017-506821	底部ポンプ及びパージ並びに落下粒子欠陥を減少させる底部オゾン洗浄ハードウェア	2017年 3月 9日
特表 2017-506290	フレキシブル基板のスプレッディングためのローラ、フレキシブル基板を処理するための装置、及びそれらを操作する方法	2017年 3月 2日
特表 2017-506409	電気化学デバイスの電極層上への固体電解質の堆積	2017年 3月 2日
特表 2017-506437	改善されたフローコンダクタンス及び均一性のため軸対称性を可能にするインラインＤＰＳチャンバハードウェア設計	2017年 3月 2日
特表 2017-506438	渦電流測定値を調整すること	2017年 3月 2日
特表 2017-505987	低圧ツール交換を可能にする薄膜カプセル化処理システム及び処理キット	2017年 2月23日

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2017-63212 2017-508303 2017-507247 2017-507338 2017-507477 2017-507501 2017-55126 2017-506703 2017-506817 2017-506821 2017-506290 2017-506409 2017-506437 2017-506438 2017-505987

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