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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第141位　330件（2018年：第172位　256件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第156位　176件（2018年：第188位　158件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2019-514208	ガスの均一な流れを提供する装置および方法	2019年 5月30日
特表 2019-514214	半導体処理チャンバ	2019年 5月30日
特表 2019-514222	排気冷却用装置	2019年 5月30日
特表 2019-514223	酸素プラズマ洗浄サイクルの使用によるプラズマ軽減固形物回避	2019年 5月30日
特開 2019-81948	静的磁石アセンブリを有する物理的気相堆積チャンバ、及びスパッタリングする方法	2019年 5月30日
特開 2019-83327	側面数増強対応移送チャンバ、半導体デバイスの製造処理ツール及び処理方法	2019年 5月30日
特開 2019-83331	最小限のクロストークで熱的に分離されたゾーンを有する静電チャック	2019年 5月30日
特表 2019-513182	キャリア、真空システム及び真空システムを操作する方法	2019年 5月23日
特表 2019-513289	減圧システム内でマスクデバイスを取り扱う方法、マスクハンドリング装置、及び減圧システム	2019年 5月23日
特表 2019-513290	基板を真空処理するための装置、基板を真空処理するためのシステム、及び、真空チャンバ内で基板キャリアとマスクキャリアを搬送するための方法	2019年 5月23日
特表 2019-513291	処理システム内のキャリアをルーティングするための装置、キャリア上の基板を処理するためのシステム、及び真空チャンバ内のキャリアをルーティングする方法	2019年 5月23日
特表 2019-513299	ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ	2019年 5月23日
特表 2019-513304	回転ビームのレーザスクライビングプロセスとプラズマエッチングプロセスとを使用する、ハイブリッドなウエハダイシングの手法	2019年 5月23日
特表 2019-512593	真空処理システムのための供給ラインガイド、供給ラインガイド及び処理システムの使用	2019年 5月16日
特表 2019-512599	物理的気相堆積プロセスにおけるイオン分画を制御するための方法および装置	2019年 5月16日

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2019-514208 2019-514214 2019-514222 2019-514223 2019-81948 2019-83327 2019-83331 2019-513182 2019-513289 2019-513290 2019-513291 2019-513299 2019-513304 2019-512593 2019-512599

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