特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第128位　330件（2018年：第153位　256件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第156位　176件（2018年：第188位　158件）

（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6626977	膜形成装置及び膜形成方法	2019年12月25日
特許 6626878	吸収体を有する、平坦化された極紫外線リソグラフィブランク	2019年12月25日
特許 6625699	動径基底関数ネットワークおよび超立方体を使用した半導体処理機器における偏位の分類	2019年12月25日
特許 6625520	極端紫外線リソグラフィマスクブランク製造システムとそのための操作方法	2019年12月25日
特許 6622844	遠隔プラズマ源を使用する低温での選択的な酸化のための装置及び方法	2019年12月18日
特許 6622321	ダイレクトアップコンバージョンを用いてマイクロ波フィールドの回転周波数をデジタル制御するプラズマリアクタ	2019年12月18日
特許 6621426	ＩＩＩ−Ｖチャネルを形成する方法	2019年12月18日
特許 6620125	バッキング層および研磨層を有する印刷による化学機械研磨パッド	2019年12月11日
特許 6620091	マスクレスハイブリッドレーザスクライビング及びプラズマエッチングウエハダイシング処理	2019年12月11日
特許 6620112	処理システムを使用した空隙構造の組込	2019年12月11日
特許 6620228	真空処理システムを動作させる方法	2019年12月11日
特許 6620234	基板を保持するためのキャリア、処理システムでのキャリアの使用、キャリアを用いる処理システム、及び基板の温度を制御するための方法	2019年12月11日
特許 6615126	光ファイバ加熱を含む基板温度制御装置、基板温度制御システム、電子デバイス処理システム及び方法	2019年12月 4日
特許 6615195	プラズマ処理設備における内表面調整評価のためのシステム及び方法	2019年12月 4日
特許 6615607	遠隔プラズマ源を使用する低温での選択的な酸化のための装置及び方法	2019年12月 4日

176 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6626977 6626878 6625699 6625520 6622844 6622321 6621426 6620125 6620091 6620112 6620228 6620234 6615126 6615195 6615607

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数