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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2019年 出願公開件数ランキング    第141位 330件 上昇2018年:第172位 256件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第156位 176件 上昇2018年:第188位 158件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6625520 極端紫外線リソグラフィマスクブランク製造システムとそのための操作方法 2019年12月25日
特許 6625699 動径基底関数ネットワークおよび超立方体を使用した半導体処理機器における偏位の分類 2019年12月25日
特許 6626878 吸収体を有する、平坦化された極紫外線リソグラフィブランク 2019年12月25日
特許 6626977 膜形成装置及び膜形成方法 2019年12月25日
特許 6621426 III−Vチャネルを形成する方法 2019年12月18日
特許 6622321 ダイレクトアップコンバージョンを用いてマイクロ波フィールドの回転周波数をデジタル制御するプラズマリアクタ 2019年12月18日
特許 6622844 遠隔プラズマ源を使用する低温での選択的な酸化のための装置及び方法 2019年12月18日
特許 6620091 マスクレスハイブリッドレーザスクライビング及びプラズマエッチングウエハダイシング処理 2019年12月11日
特許 6620112 処理システムを使用した空隙構造の組込 2019年12月11日
特許 6620125 バッキング層および研磨層を有する印刷による化学機械研磨パッド 2019年12月11日
特許 6620228 真空処理システムを動作させる方法 2019年12月11日
特許 6620234 基板を保持するためのキャリア、処理システムでのキャリアの使用、キャリアを用いる処理システム、及び基板の温度を制御するための方法 2019年12月11日
特許 6615126 光ファイバ加熱を含む基板温度制御装置、基板温度制御システム、電子デバイス処理システム及び方法 2019年12月 4日
特許 6615195 プラズマ処理設備における内表面調整評価のためのシステム及び方法 2019年12月 4日
特許 6615607 遠隔プラズマ源を使用する低温での選択的な酸化のための装置及び方法 2019年12月 4日

176 件中 1-15 件を表示

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6625520 6625699 6626878 6626977 6621426 6622321 6622844 6620091 6620112 6620125 6620228 6620234 6615126 6615195 6615607

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