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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第141位　330件（2018年：第172位　256件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第156位　176件（2018年：第188位　158件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6625520	極端紫外線リソグラフィマスクブランク製造システムとそのための操作方法	2019年12月25日
特許 6625699	動径基底関数ネットワークおよび超立方体を使用した半導体処理機器における偏位の分類	2019年12月25日
特許 6626878	吸収体を有する、平坦化された極紫外線リソグラフィブランク	2019年12月25日
特許 6626977	膜形成装置及び膜形成方法	2019年12月25日
特許 6621426	ＩＩＩ−Ｖチャネルを形成する方法	2019年12月18日
特許 6622321	ダイレクトアップコンバージョンを用いてマイクロ波フィールドの回転周波数をデジタル制御するプラズマリアクタ	2019年12月18日
特許 6622844	遠隔プラズマ源を使用する低温での選択的な酸化のための装置及び方法	2019年12月18日
特許 6620091	マスクレスハイブリッドレーザスクライビング及びプラズマエッチングウエハダイシング処理	2019年12月11日
特許 6620112	処理システムを使用した空隙構造の組込	2019年12月11日
特許 6620125	バッキング層および研磨層を有する印刷による化学機械研磨パッド	2019年12月11日
特許 6620228	真空処理システムを動作させる方法	2019年12月11日
特許 6620234	基板を保持するためのキャリア、処理システムでのキャリアの使用、キャリアを用いる処理システム、及び基板の温度を制御するための方法	2019年12月11日
特許 6615126	光ファイバ加熱を含む基板温度制御装置、基板温度制御システム、電子デバイス処理システム及び方法	2019年12月 4日
特許 6615195	プラズマ処理設備における内表面調整評価のためのシステム及び方法	2019年12月 4日
特許 6615607	遠隔プラズマ源を使用する低温での選択的な酸化のための装置及び方法	2019年12月 4日

176 件中 1-15 件を表示

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6625520 6625699 6626878 6626977 6621426 6622321 6622844 6620091 6620112 6620125 6620228 6620234 6615126 6615195 6615607

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