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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件
(2021年:第132位 313件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第112位 303件
(2021年:第117位 241件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7144532 | 選択的エッチングプロセスの選択性を高める方法 | 2022年 9月29日 | |
特許 7144610 | イオン注入の生産性向上のためのGeH4/Arプラズマ化学 | 2022年 9月29日 | |
特許 7142770 | バッテリ用セパレータへのセラミックコーティング | 2022年 9月27日 | |
特許 7141471 | シーズニングプロセスの終点を検出するための方法および装置 | 2022年 9月22日 | |
特許 7140760 | インシトゥ電磁誘導モニタシステムのコア構成 | 2022年 9月21日 | |
特許 7139462 | 薄膜による均一な粒子コーティングのための回転リアクタ | 2022年 9月20日 | |
特許 7139463 | 積層造形プロセスを用いて形成される研磨パッド及びそれに関連する方法 | 2022年 9月20日 | |
特許 7139467 | 液体リチウムの供給及び制御 | 2022年 9月20日 | |
特許 7137697 | 高流速でガスパージされる側部収納ポッド装置、アセンブリ、及び方法 | 2022年 9月14日 | |
特許 7136904 | 研磨流体添加物の濃度を測定する装置、及びかかる装置に関連する方法 | 2022年 9月13日 | |
特許 7136945 | エピタキシャル成長装置用のチャンバ構成要素 | 2022年 9月13日 | |
特許 7136977 | 基板ルーティング及びスループットモデリングのためのグラフィック処理ユニットの使用 | 2022年 9月13日 | |
特許 7135080 | 原子層堆積及びエッチングを使用してポア径を縮小させるための方法 | 2022年 9月12日 | |
特許 7134101 | 化学機械研磨用スラリー分配装置 | 2022年 9月 9日 | |
特許 7134175 | 物理的気相堆積処理システムのターゲットの冷却 | 2022年 9月 9日 |
303 件中 91-105 件を表示
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7144532 7144610 7142770 7141471 7140760 7139462 7139463 7139467 7137697 7136904 7136945 7136977 7135080 7134101 7134175
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