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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件
（
2021年：第132位 313件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第112位 303件
（2021年：第117位 241件）
（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7112565 | リアルタイムの力および膜応力制御を備えた基板支持体 | 2022年 8月 3日 | |
| 特許 7111466 | ３Ｄパターン形成のためのデジタルグレイトーンリソグラフィ | 2022年 8月 2日 | |
| 特許 7111819 | 遠隔プラズマによる酸化へのアルゴン添加 | 2022年 8月 2日 | |
| 特許 7109445 | 基板における均一の液体流分布のためのスプレーバー設計 | 2022年 7月29日 | |
| 特許 7109564 | マルチパスレーザスクライビングプロセスとプラズマエッチングプロセスを使用したハイブリッドウエハダイシングアプローチ | 2022年 7月29日 | |
| 特許 7108409 | 保護された負極を有する電気化学セル | 2022年 7月28日 | |
| 特許 7108623 | 高温環境において高周波電力を測定するための電圧－電流プローブ、及び電圧－電流プローブを較正する方法 | 2022年 7月28日 | |
| 特許 7107972 | チャック力制御を有する静電チャック基板支持体 | 2022年 7月27日 | |
| 特許 7106681 | デュアルロードロックチャンバ | 2022年 7月26日 | |
| 特許 7105725 | 広範囲の動作温度を有するＰＥＣＶＤセラミックヒータ | 2022年 7月25日 | |
| 特許 7105900 | 両面処理のためのパターニングされた真空チャック | 2022年 7月25日 | |
| 特許 7105905 | 圧力減衰速度に基づく質量流量点検の方法、システム、及び装置 | 2022年 7月25日 | |
| 特許 7105282 | プラズマ処理チャンバ内のウエハキャリアのための高度な温度制御 | 2022年 7月22日 | |
| 特許 7105324 | 空間光変調器のためのデータストリームを削減する方法 | 2022年 7月22日 | |
| 特許 7104809 | 結合層とピンニング層の格子整合を用いた磁気トンネル接合 | 2022年 7月21日 |
303 件中 136-150 件を表示
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7112565 7111466 7111819 7109445 7109564 7108409 7108623 7107972 7106681 7105725 7105900 7105905 7105282 7105324 7104809
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特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ～コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説～
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