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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件
(2021年:第132位 313件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第112位 303件
(2021年:第117位 241件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7123189 | 酸化ハフニウムの薄膜におけるドーパント濃度のチューニング可能性 | 2022年 8月22日 | |
特許 7122061 | エアギャップ形成プロセス | 2022年 8月19日 | |
特許 7121445 | 電子デバイス製造において複数の基板を移送するように適合されたマルチブレードロボット装置、電子デバイス製造装置、及び方法 | 2022年 8月18日 | |
特許 7121446 | 高密度プラズマ化学気相堆積チャンバ | 2022年 8月18日 | |
特許 7121447 | 正確な温度及び流量制御を備えたマルチステーションチャンバリッド | 2022年 8月18日 | |
特許 7120748 | 回転ソータの自動化 | 2022年 8月17日 | |
特許 7120992 | 調整可能なシャワーヘッド及び調整可能なライナを有する処理チャンバ | 2022年 8月17日 | |
特許 7118511 | シリコン間隙充填のための二段階プロセス | 2022年 8月16日 | |
特許 7118512 | 反応性アニールを使用する間隙充填 | 2022年 8月16日 | |
特許 7117300 | 浮遊シャドウリングを有するプロセスキット | 2022年 8月12日 | |
特許 7117332 | フレキシブル基板をコーティングするための堆積装置、及びフレキシブル基板をコーティングする方法 | 2022年 8月12日 | |
特許 7116753 | 堆積用監視システム及びその操作方法 | 2022年 8月10日 | |
特許 7114270 | タンデム処理領域を有するプラズマチャンバ | 2022年 8月 8日 | |
特許 7114593 | ホットワイヤ化学気相堆積を介して、センサ用途のためにポリマー層を堆積するための方法 | 2022年 8月 8日 | |
特許 7114793 | 電子デバイス製造システムにおいて直接的な構成要素同士の接触を介して間隙を較正するシステム及び方法 | 2022年 8月 8日 |
303 件中 121-135 件を表示
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7123189 7122061 7121445 7121446 7121447 7120748 7120992 7118511 7118512 7117300 7117332 7116753 7114270 7114593 7114793
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9月6日(土) -
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9月12日(金) -
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