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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件
(
2021年:第109位 313件)
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(
2021年:第116位 241件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7198246 | 自己組織化単分子層処理のための化学物質供給チャンバ | 2022年12月28日 | |
| 特許 7198228 | 電極アセンブリを備えたプラズマチャンバ | 2022年12月28日 | |
| 特許 7196295 | テーパー状の傾斜したフィンを作製するための制御されたハードマスク成形 | 2022年12月26日 | |
| 特許 7196289 | 磁気トンネル接合部への上部接点を形成する方法 | 2022年12月26日 | |
| 特許 7195337 | 基板処理におけるドーズマップおよび特徴サイズマップの製造および使用 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7194725 | 3Dメモリ構造における高アスペクト比孔形成へのボトムアップアプローチ | 2022年12月22日 | |
| 特許 7194116 | 酸化ケイ素の核形成/接着の向上により膜粗さを改善するための処理アプローチ | 2022年12月21日 | |
| 特許 7193456 | ニューラルネットワークを使用する分光モニタリング | 2022年12月20日 | |
| 特許 7192127 | 極紫外線マスク吸収体、及びその製造のためのプロセス | 2022年12月19日 | |
| 特許 7192117 | 基板上の限界寸法測定の方法、および基板上の電子デバイスを検査し、カッティングするための装置 | 2022年12月19日 | |
| 特許 7191204 | 熱管理システム | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190905 | 半導体基板から炭素汚染物質及び表面酸化物を除去するための処理チャンバを有する真空プラットフォーム | 2022年12月16日 | |
| 特許 7191023 | 下位構造材料に直接RF曝露しない共形の気密性誘電体封入のためのSIBN膜 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190570 | 非対称静電構成を有する静電フィルタおよびイオン注入装置 | 2022年12月15日 | |
| 特許 7190450 | 炭化ホウ素ハードマスクのドライストリッピング | 2022年12月15日 |
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7198246 7198228 7196295 7196289 7195337 7194725 7194116 7193456 7192127 7192117 7191204 7190905 7191023 7190570 7190450
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10月13日(火) - オンライン
AI Native知財 - 私たちはどう生きるか? - 楠浦崇央 氏(TechnoProducer株式会社 代表取締役/発明塾 塾長) x 弁理士木本大介(リーガルテック株式会社アドバイザー)
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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生成AIを活用した技術&知財戦略の策定方法-生成AIを活用したアイデア発想とパテントマップ作成による勝てる技術&知財戦略の実践方法-
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〜発明が生まれる開発現場の知財力を強化する~一枚図解でわかる 新規性・進歩性 ──発明とは何なのかを理解して、その先のイノベーションへ!
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公正取引委員会 も注視する“不当なノウハウ流出”の現場と対策セミナー 「電子公証サービス」で証拠を残す 共同研究や取引交渉で負けない知財戦略
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