特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2022年出願公開件数ランキング　　　第56位　541件（2021年：第132位　313件）

　■　2022年特許取得件数ランキング　　　第112位　303件（2021年：第117位　241件）

（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7198228	電極アセンブリを備えたプラズマチャンバ	2022年12月28日
特許 7198246	自己組織化単分子層処理のための化学物質供給チャンバ	2022年12月28日
特許 7196289	磁気トンネル接合部への上部接点を形成する方法	2022年12月26日
特許 7196295	テーパー状の傾斜したフィンを作製するための制御されたハードマスク成形	2022年12月26日
特許 7195337	基板処理におけるドーズマップおよび特徴サイズマップの製造および使用	2022年12月23日
特許 7194725	３Ｄメモリ構造における高アスペクト比孔形成へのボトムアップアプローチ	2022年12月22日
特許 7194116	酸化ケイ素の核形成／接着の向上により膜粗さを改善するための処理アプローチ	2022年12月21日
特許 7193456	ニューラルネットワークを使用する分光モニタリング	2022年12月20日
特許 7192117	基板上の限界寸法測定の方法、および基板上の電子デバイスを検査し、カッティングするための装置	2022年12月19日
特許 7192127	極紫外線マスク吸収体、及びその製造のためのプロセス	2022年12月19日
特許 7190905	半導体基板から炭素汚染物質及び表面酸化物を除去するための処理チャンバを有する真空プラットフォーム	2022年12月16日
特許 7191023	下位構造材料に直接ＲＦ曝露しない共形の気密性誘電体封入のためのＳＩＢＮ膜	2022年12月16日
特許 7191204	熱管理システム	2022年12月16日
特許 7190450	炭化ホウ素ハードマスクのドライストリッピング	2022年12月15日
特許 7190558	ナノポアを形成する方法およびその結果生じる構造	2022年12月15日

303 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7198228 7198246 7196289 7196295 7195337 7194725 7194116 7193456 7192117 7192127 7190905 7191023 7191204 7190450 7190558

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数