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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件
（
2021年：第132位 313件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第112位 303件
（2021年：第117位 241件）
（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7198228 | 電極アセンブリを備えたプラズマチャンバ | 2022年12月28日 | |
| 特許 7198246 | 自己組織化単分子層処理のための化学物質供給チャンバ | 2022年12月28日 | |
| 特許 7196289 | 磁気トンネル接合部への上部接点を形成する方法 | 2022年12月26日 | |
| 特許 7196295 | テーパー状の傾斜したフィンを作製するための制御されたハードマスク成形 | 2022年12月26日 | |
| 特許 7195337 | 基板処理におけるドーズマップおよび特徴サイズマップの製造および使用 | 2022年12月23日 | |
| 特許 7194725 | ３Ｄメモリ構造における高アスペクト比孔形成へのボトムアップアプローチ | 2022年12月22日 | |
| 特許 7194116 | 酸化ケイ素の核形成／接着の向上により膜粗さを改善するための処理アプローチ | 2022年12月21日 | |
| 特許 7193456 | ニューラルネットワークを使用する分光モニタリング | 2022年12月20日 | |
| 特許 7192117 | 基板上の限界寸法測定の方法、および基板上の電子デバイスを検査し、カッティングするための装置 | 2022年12月19日 | |
| 特許 7192127 | 極紫外線マスク吸収体、及びその製造のためのプロセス | 2022年12月19日 | |
| 特許 7190905 | 半導体基板から炭素汚染物質及び表面酸化物を除去するための処理チャンバを有する真空プラットフォーム | 2022年12月16日 | |
| 特許 7191023 | 下位構造材料に直接ＲＦ曝露しない共形の気密性誘電体封入のためのＳＩＢＮ膜 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7191204 | 熱管理システム | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190450 | 炭化ホウ素ハードマスクのドライストリッピング | 2022年12月15日 | |
| 特許 7190558 | ナノポアを形成する方法およびその結果生じる構造 | 2022年12月15日 |
303 件中 1-15 件を表示
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7198228 7198246 7196289 7196295 7195337 7194725 7194116 7193456 7192117 7192127 7190905 7191023 7191204 7190450 7190558
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