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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2023年 出願公開件数ランキング    第32位 708件 上昇2022年:第56位 541件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第80位 398件 上昇2022年:第112位 303件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7407121 パターニング用途のためのカーボンハードマスク及び関連方法 2023年12月28日
特許 7407259 DRAM STIアクティブカットパターニングへのマルチカラーアプローチ 2023年12月28日
特許 7406646 チャンバ状態モニタリングのための容量性センサハウジング 2023年12月27日
特許 7405776 保護コーティングを有するプロセスチャンバプロセスキット 2023年12月26日
特許 7405994 非対称な輪郭を有する共振器コイル 2023年12月26日
特許 7404217 OLEDデバイスの製造に使用される真空システムを洗浄するための方法、OLEDデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための方法、及びOLEDデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための装置 2023年12月25日
特許 7404268 自己センタリング特徴を有するツーピースシャッタディスクアセンブリ 2023年12月25日
特許 7404371 複数の格子を形成する方法 2023年12月25日
特許 7404383 チャンバ部品保護用のオキシフッ化物化合物 2023年12月25日
特許 7404406 折り畳み式ディスプレイ用の可撓性多層カバーレンズ積層体 2023年12月25日
特許 7404407 折り畳み式ディスプレイ用の可撓性多層カバーレンズ積層体 2023年12月25日
特許 7404432 金属酸化物でカプセル化された薬物組成物及びその調製方法 2023年12月25日
特許 7404445 ホール効果が促進された容量結合プラズマ源、軽減システム、および真空処理システム 2023年12月25日
特許 7402253 インシトゥチャンバ洗浄能力を備えた物理的気相堆積(PVD)チャンバ 2023年12月20日
特許 7402255 高温用途のための着脱可能なバイアス可能な静電チャック 2023年12月20日

398 件中 1-15 件を表示

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7407121 7407259 7406646 7405776 7405994 7404217 7404268 7404371 7404383 7404406 7404407 7404432 7404445 7402253 7402255

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