特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第138位　311件（2019年：第141位　330件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第136位　210件（2019年：第156位　176件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6803917	真空処理システム及び真空処理を行う方法	2020年12月23日
特許 6803926	ヘッドルーム制御とＥｔｈｅｒＣＡＴインターフェースを有するめっき電源	2020年12月23日
特許 6803967	低損傷及び高スループットのプラズマ処理のための大面積ＶＨＦ　ＰＥＣＶＤチャンバ	2020年12月23日
特許 6804990	より均一なエッジパージを有する基板支持体	2020年12月23日
特許 6805324	マイクロメカニカル及び半導体処理におけるワークピースキャリアの積層された上部プレート	2020年12月23日
特許 6799601	ＯＬＥＤデバイスの製造に使用される真空システムを洗浄するための方法、ＯＬＥＤデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための方法、及びＯＬＥＤデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための装置	2020年12月16日
特許 6800015	３Ｄフラッシュメモリ応用のための誘電体金属スタック	2020年12月16日
特許 6800216	基板処理のためのＲＦ電力供給制御	2020年12月16日
特許 6800236	真空チャンバ内のガス分離通路のガス分離品質を検査する方法、および真空処理装置	2020年12月16日
特許 6800867	ターゲット寿命にわたって１つまたは複数の膜特性を制御するための自動容量チューナによる電流補償	2020年12月16日
特許 6802191	サセプタの位置付け及び回転装置、並びに使用の方法	2020年12月16日
特許 6797690	ファセット付き内面を有する保持リング	2020年12月 9日
特許 6789966	膜堆積のためのパルス化されたプラズマ	2020年12月 2日
特許 6793118	磁気感受性による電波の屈折および速度変化によって温度を測定する方法	2020年12月 2日
特許 6793551	渦電流測定値を調整すること	2020年12月 2日

211 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6803917 6803926 6803967 6804990 6805324 6799601 6800015 6800216 6800236 6800867 6802191 6797690 6789966 6793118 6793551

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数