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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6803917	真空処理システム及び真空処理を行う方法	2020年12月23日
特許 6803926	ヘッドルーム制御とＥｔｈｅｒＣＡＴインターフェースを有するめっき電源	2020年12月23日
特許 6803967	低損傷及び高スループットのプラズマ処理のための大面積ＶＨＦ　ＰＥＣＶＤチャンバ	2020年12月23日
特許 6804990	より均一なエッジパージを有する基板支持体	2020年12月23日
特許 6805324	マイクロメカニカル及び半導体処理におけるワークピースキャリアの積層された上部プレート	2020年12月23日
特許 6799601	ＯＬＥＤデバイスの製造に使用される真空システムを洗浄するための方法、ＯＬＥＤデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための方法、及びＯＬＥＤデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための装置	2020年12月16日
特許 6800015	３Ｄフラッシュメモリ応用のための誘電体金属スタック	2020年12月16日
特許 6800216	基板処理のためのＲＦ電力供給制御	2020年12月16日
特許 6800236	真空チャンバ内のガス分離通路のガス分離品質を検査する方法、および真空処理装置	2020年12月16日
特許 6800867	ターゲット寿命にわたって１つまたは複数の膜特性を制御するための自動容量チューナによる電流補償	2020年12月16日
特許 6802191	サセプタの位置付け及び回転装置、並びに使用の方法	2020年12月16日
特許 6797690	ファセット付き内面を有する保持リング	2020年12月 9日
特許 6789966	膜堆積のためのパルス化されたプラズマ	2020年12月 2日
特許 6793118	磁気感受性による電波の屈折および速度変化によって温度を測定する方法	2020年12月 2日
特許 6793551	渦電流測定値を調整すること	2020年12月 2日

211 件中 1-15 件を表示

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6803917 6803926 6803967 6804990 6805324 6799601 6800015 6800216 6800236 6800867 6802191 6797690 6789966 6793118 6793551

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