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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第42位 242件
(2024年:第41位 605件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第33位 263件
(2024年:第47位 555件)
(ランキング更新日:2025年6月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2025-516832 | 半導体膜処理用の活性核種を均一に分配するためのハードウェア | 2025年 5月30日 | |
特表 2025-516865 | 金属酸化物薄膜トランジスタの再生アニール | 2025年 5月30日 | |
特表 2025-516951 | 完全な水平のスキャンされるビーム距離を最適化するためのシステムおよび方法 | 2025年 5月30日 | |
特開 2025-81293 | 半導体処理チャンバアダプタ | 2025年 5月27日 | |
特開 2025-81314 | 不純物を含まない金属合金膜を形成するための方法 | 2025年 5月27日 | |
特開 2025-81316 | フレキシブル基板を誘導するためのローラデバイス、フレキシブル基板を搬送するためのローラデバイスの使用、真空処理装置、及びフレキシブル基板を処理する方法 | 2025年 5月27日 | |
特開 2025-81368 | 高温真空密閉 | 2025年 5月27日 | |
特開 2025-81383 | 特徴を含む内面を有する保持リング | 2025年 5月27日 | |
特表 2025-516124 | 機械学習モデルに基づく急速熱処理チャンバのためのコントローラ | 2025年 5月27日 | |
特表 2025-516167 | 半導体ウエハ処理における変位測定 | 2025年 5月27日 | |
特表 2025-516255 | プラズマ出力源からのからの自律周波数検索 | 2025年 5月27日 | |
特表 2025-516301 | ウエハフレームキャリア | 2025年 5月27日 | |
特表 2025-516308 | 低温炭素間隙充填 | 2025年 5月27日 | |
特表 2025-515637 | 光分解を低減するリン添加物を含むフォトルミネッセンス材料 | 2025年 5月20日 | |
特表 2025-515668 | 共形金属ジカルコゲナイド | 2025年 5月20日 |
242 件中 16-30 件を表示
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2025-516832 2025-516865 2025-516951 2025-81293 2025-81314 2025-81316 2025-81368 2025-81383 2025-516124 2025-516167 2025-516255 2025-516301 2025-516308 2025-515637 2025-515668
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