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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7620001 | 半導体処理チャンバ及びそれを洗浄するための方法 | 2025年 1月22日 | |
特許 7620046 | フレキシブルカバーレンズのための多層乾湿ハードコート | 2025年 1月22日 | |
特許 7618579 | 静電チャックプロセス | 2025年 1月21日 | |
特許 7618681 | 化学機械研磨のための蒸気発生の制御 | 2025年 1月21日 | |
特許 7618784 | 堆積及びエッチングのための半導体処理チャンバ | 2025年 1月21日 | |
特許 7618853 | 固体ドーパント材料用の挿入可能なターゲットホルダの温度制御 | 2025年 1月21日 | |
特許 7617900 | エッチング限界寸法制御のための非共形性の高選択性膜 | 2025年 1月20日 | |
特許 7617913 | 低減された水素堆積方法 | 2025年 1月20日 | |
特許 7617914 | ガス伝達システム及び方法 | 2025年 1月20日 | |
特許 7617938 | 線形加速器のための制御装置及び制御技術並びに線形加速器を有するイオン注入装置 | 2025年 1月20日 | |
特許 7618005 | リチウム金属アノードのための、カルコゲナイドを用いたエクスシトゥ固体電解質界面修飾 | 2025年 1月20日 | |
特許 7618008 | 方向付けられたウエハローディングによる非対称性補正 | 2025年 1月20日 | |
特許 7618038 | 化学物質デリバリシステムのアンプル内の圧力揺らぎを減少させるための方法および装置 | 2025年 1月20日 | |
特許 7617098 | 結晶化に耐性のあるアモルファスシリコンベースのフィルム | 2025年 1月17日 | |
特許 7617114 | 改良された選択性およびフローコンダクタンスを有する金属酸化物前洗浄チャンバ | 2025年 1月17日 |
19 件中 1-15 件を表示
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7620001 7620046 7618579 7618681 7618784 7618853 7617900 7617913 7617914 7617938 7618005 7618008 7618038 7617098 7617114
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