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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2025年 出願公開件数ランキング    第42位 486件 下降2024年:第41位 605件)

  2025年 特許取得件数ランキング    第34位 483件 上昇2024年:第47位 555件)

(ランキング更新日:2025年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2025-534731 光学装置のための全体的または局所的厚み変化 2025年10月17日
特表 2025-534743 リフレクタを備えた処理チャンバ 2025年10月17日
特表 2025-534846 被覆粉末組成物を調製するためのプロセス 2025年10月17日
特開 2025-157230 高温チャックが改善された半導体基板支持体 2025年10月15日
特開 2025-157283 イオンエネルギー制御を伴うプラズマ励起 2025年10月15日
特開 2025-157287 モリブデン膜の堆積のためのモリブデン(0)前駆体 2025年10月15日
特開 2025-157303 化学機械研磨のための音響モニタリングおよびセンサ 2025年10月15日
特表 2025-534243 光変換効率を向上させた発光ダイオード 2025年10月15日
特表 2025-534278 ディスプレイデバイス用色変換層およびディスプレイデバイスを形成する方法 2025年10月15日
特表 2025-534280 洗浄モジュール内で基板を処理するための方法及び装置 2025年10月15日
特表 2025-534286 高バイアス用途向け流体導管及びフランジ 2025年10月15日
特表 2025-534287 アルゴン送達用大径多孔質プラグと2段階ソフトチャック法 2025年10月15日
特表 2025-534307 基板の選択的酸化 2025年10月15日
特表 2025-534428 基板処理チャンバ用ランプ及び窓の構成 2025年10月15日
特表 2025-534171 ガス供給パレットアセンブリ、洗浄ユニット及びこれを有する化学機械研磨システム 2025年10月14日

15 件中 1-15 件を表示

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2025-534731 2025-534743 2025-534846 2025-157230 2025-157283 2025-157287 2025-157303 2025-534243 2025-534278 2025-534280 2025-534286 2025-534287 2025-534307 2025-534428 2025-534171

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