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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1790位 12件
（
2016年：第1239位 20件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第872位 25件
（
2016年：第1121位 19件）
（ランキング更新日：2026年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6174584 | 視射角ミル | 2017年 8月 2日 | |
| 特許 6169327 | プラズマ・イオン源内において異なる処理ガスを迅速に切り替える方法および構造 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6129237 | レーザ・アブレーション微細機械加工用の荷電粒子ビーム・マスキング | 2017年 5月17日 | |
| 特許 6129164 | 流体高電圧絶縁に関連して使用される固体媒質中への電極の封入 | 2017年 5月17日 | |
| 特許 6113842 | 集束イオン・ビーム処理の終点決定 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6109115 | レーザ機械加工のための方法および装置 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6108684 | 局所領域ナビゲーション用の高精度ビーム配置 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6105260 | 荷電粒子ビーム・システムのためにプラズマ源内に電極を取り付けるためのシステム | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6085596 | 能動的に流れ出ることのない液体を用いたプラズマ・イオン源の高電圧絶縁 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6059433 | 材料を付着させる方法 | 2017年 1月11日 |
25 件中 16-25 件を表示
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6174584 6169327 6129237 6129164 6113842 6109115 6108684 6105260 6085596 6059433
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