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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第296位 118件 (2021年:第242位 168件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第315位 95件 (2021年:第426位 59件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7084805 | III族窒化物単結晶基板及びIII族窒化物単結晶積層体の製造方法 | 2022年 6月15日 | |
特許 7084847 | シリカ-チタニア複合酸化物粒子 | 2022年 6月15日 | |
特許 7084885 | 回収二水石膏のセメント原料としての使用方法 | 2022年 6月15日 | |
特許 7081010 | オニウム塩を含む半導体ウェハの処理液 | 2022年 6月 6日 | |
特許 7078512 | 廃石膏ボードからの二水石膏の回収方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7068034 | シリコン微粒子及びその製造方法 | 2022年 5月16日 | |
特許 7066776 | ポリロタキサン及びその製法並びに該ポリロタキサンを含有する光学用組成物 | 2022年 5月13日 | |
特許 7065599 | パイロリティック窒化ホウ素及びパイロリティック窒化ホウ素の製造方法、並びにパイロリティック窒化ホウ素を用いた結晶成長装置 | 2022年 5月12日 | |
特許 7065699 | 発電方法 | 2022年 5月12日 | |
特許 7063896 | 洗浄装置、および洗浄方法 | 2022年 5月 9日 | |
特許 7052136 | 有機鉛化合物の量を低下させる方法 | 2022年 4月11日 | |
特許 7050184 | ルテニウムの半導体用処理液及びその製造方法 | 2022年 4月 7日 | |
特許 7046868 | ジアリールメタン化合物の製造方法 | 2022年 4月 4日 | |
特許 7045446 | フォトクロミック接着性組成物、フォトクロミック積層体、及び該フォトクロミック積層体を用いた光学物品 | 2022年 3月31日 | |
特許 7043687 | 有機化合物の精製方法及び有機化合物の製造方法 | 2022年 3月29日 |
97 件中 61-75 件を表示
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7084805 7084847 7084885 7081010 7078512 7068034 7066776 7065599 7065699 7063896 7052136 7050184 7046868 7045446 7043687
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11月22日(金) -
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
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11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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