※ ログインすれば出願人(JSR株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第283位 135件
(2020年:第264位 155件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第271位 105件
(2020年:第225位 128件)
(ランキング更新日:2025年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6892034 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 | 2021年 6月18日 | |
特許 6892035 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 | 2021年 6月18日 | |
特許 6886113 | 感放射線性組成物、パターン形成方法及び感放射線性酸発生剤 | 2021年 6月16日 | |
特許 6888241 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法、液晶素子及び液晶素子の製造方法 | 2021年 6月16日 | |
特許 6888308 | 樹脂組成物、重合体の製造方法及び成形体 | 2021年 6月16日 | |
特許 6885079 | 変性共役ジエン系重合体の製造方法、重合体組成物、架橋重合体及びタイヤ | 2021年 6月 9日 | |
特許 6885281 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法、及びパターニングされた基板の製造方法 | 2021年 6月 9日 | |
特許 6881660 | 光学フィルターおよび光学センサー装置 | 2021年 6月 2日 | |
特許 6882689 | 基材表面の選択的修飾方法及び組成物 | 2021年 6月 2日 | |
特許 6882703 | 酸拡散制御剤及び化合物 | 2021年 6月 2日 | |
特許 6870289 | 液晶配向剤、液晶素子の製造方法、液晶配向膜、液晶素子 | 2021年 5月12日 | |
特許 6870377 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 | 2021年 5月12日 | |
特許 6870689 | 液晶素子及びその製造方法、並びに表示装置 | 2021年 5月12日 | |
特許 6871520 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 | 2021年 5月12日 | |
特許 6866298 | 多孔質粒子の製造方法、多孔質粒子、担体、カラム、及び標的物質の分離方法 | 2021年 4月28日 |
109 件中 61-75 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6892034 6892035 6886113 6888241 6888308 6885079 6885281 6881660 6882689 6882703 6870289 6870377 6870689 6871520 6866298
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。JSR株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月20日(木) - 東京 港区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
〒141-0031 東京都品川区西五反田3-6-20 いちご西五反田ビル8F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒166-0003 東京都杉並区高円寺南2-50-2 YSビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定