※ ログインすれば出願人(日本電子株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第547位 66件
(2010年:第406位 107件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第532位 60件
(2010年:第555位 49件)
(ランキング更新日:2025年10月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4833708 | 大気圧イオン化方法及び試料保持装置 | 2011年12月 7日 | |
特許 4833743 | 画像モンタージュ処理によるステージ動作補正方法 | 2011年12月 7日 | |
特許 4822848 | 荷電粒子ビーム装置 | 2011年11月24日 | |
特許 4822826 | 粒子解析方法及び装置 | 2011年11月24日 | |
特許 4822925 | 透過型電子顕微鏡 | 2011年11月24日 | |
特許 4822920 | 3次元像構築方法および透過電子顕微鏡 | 2011年11月24日 | |
特許 4802041 | らせん軌道型飛行時間型質量分析計 | 2011年10月26日 | |
特許 4802032 | タンデム型質量分析装置 | 2011年10月26日 | |
特許 4801999 | 測定データ管理方法、測定データ構造、スペクトル再生方法及び表面分析装置 | 2011年10月26日 | |
特許 4790511 | 荷電粒子ビーム装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4790338 | 試料検査装置及び試料検査装置の制御方法 | 2011年10月12日 | |
特許 4790411 | 非点収差補正方法および電子ビーム描画装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4790567 | ロンチグラムを用いた収差測定方法及び収差補正方法及び電子顕微鏡 | 2011年10月12日 | |
特許 4790393 | 電子検出器及びそれを備えたビーム装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4790507 | プロダクトイオンスペクトル作成方法及び装置 | 2011年10月12日 |
60 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4833708 4833743 4822848 4822826 4822925 4822920 4802041 4802032 4801999 4790511 4790338 4790411 4790567 4790393 4790507
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日本電子株式会社の知財の動向チェックに便利です。
10月14日(火) -
10月14日(火) -
10月15日(水) - 東京 港区
10月15日(水) -
10月15日(水) -
10月16日(木) - 大阪 大阪市
10月16日(木) -
10月16日(木) -
10月16日(木) - 東京 新宿区
10月16日(木) -
10月17日(金) - 東京 千代田区
10月17日(金) - 神奈川 川崎市
10月17日(金) -
10月14日(火) -
10月21日(火) -
10月21日(火) - 東京 港区
10月21日(火) - 東京 港区
10月21日(火) -
10月21日(火) - 大阪 大阪市
10月21日(火) -
10月22日(水) - 東京 港区
10月22日(水) - 東京 品川
ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
10月22日(水) - 栃木 宇都宮市
10月23日(木) - 東京 港区
10月23日(木) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) - 東京 千代田区
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月21日(火) -
〒951-8152 新潟県新潟市中央区信濃町21番7号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
新潟県新潟市東区新松崎3-22-15 ラフィネドミールⅡ-102 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定