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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第593位 39件
(
2025年:第643位 41件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第445位 46件
(
2025年:第698位 32件)
(ランキング更新日:2026年10月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7910102 | 観察装置および試料ステージの制御方法 | 2026年 8月24日 | |
| 特許 7909986 | NMR検出器 | 2026年 8月24日 | |
| 特許 7899469 | 3次元積層造形システム、その制御方法、および、制御プログラム | 2026年 8月 3日 | |
| 特許 7897695 | 金属粉の評価方法 | 2026年 7月30日 | |
| 特許 7897082 | 作業台及び中継台 | 2026年 7月29日 | |
| 特許 7884024 | 走査透過電子顕微鏡およびアパーチャーの位置合わせ方法 | 2026年 7月 2日 | |
| 特許 7883982 | 分注プローブ装置及び自動分析装置 | 2026年 7月 2日 | |
| 特許 7883963 | 混合器及びそれを備えた荷電粒子線装置 | 2026年 7月 2日 | |
| 特許 7877393 | 三次元積層造形装置及び三次元積層造形方法 | 2026年 6月22日 | |
| 特許 7874679 | マススペクトル処理装置及び方法 | 2026年 6月16日 | |
| 特許 7874670 | 集束イオンビーム装置 | 2026年 6月16日 | |
| 特許 7874669 | 質量分析装置及び質量分析方法 | 2026年 6月16日 | |
| 特許 7872913 | 3次元積層造形装置、造形表面モニタ方法、および、情報処理プログラム | 2026年 6月11日 | |
| 特許 7867037 | 荷電粒子線装置および解析方法 | 2026年 5月28日 | |
| 特許 7866979 | 冷却装置及び冷却準備方法 | 2026年 5月28日 |
49 件中 16-30 件を表示
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7910102 7909986 7899469 7897695 7897082 7884024 7883982 7883963 7877393 7874679 7874670 7874669 7872913 7867037 7866979
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