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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第566位 60件
(2018年:第476位 68件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第384位 69件
(2018年:第341位 83件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6558894 | コポリマーの設計、その製造方法およびそれを含む物品 | 2019年 8月14日 | |
特許 6553585 | 光レジスト組成物、光レジスト組成物を含むコーティングされた基材、及び電子装置を形成する方法 | 2019年 7月31日 | |
特許 6553735 | ナノ構造材料の方法及び素子 | 2019年 7月31日 | |
特許 6554133 | 組成物およびフォトリソグラフィー方法 | 2019年 7月31日 | |
特許 6549277 | 高結晶質導電性ポリマー、その製造方法およびそれを含む物品 | 2019年 7月24日 | |
特許 6549417 | アルカリ水溶性UV遮断組成物および水溶性UV透明フィルムを用いた基材上の撮像 | 2019年 7月24日 | |
特許 6550446 | 下層のための芳香族樹脂 | 2019年 7月24日 | |
特許 6545463 | 誘導自己組織化パターン形成方法及び組成物 | 2019年 7月17日 | |
特許 6543459 | 変形力のある波長変換媒体 | 2019年 7月10日 | |
特許 6538116 | ピラゾール化合物とビスエポキシドとの反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 | 2019年 7月 3日 | |
特許 6539757 | 無電解銅めっき組成物 | 2019年 7月 3日 | |
特許 6535374 | 光酸発生化合物及び関連ポリマー、フォトレジスト組成物、ならびにフォトレジストレリーフ像の形成方法 | 2019年 6月26日 | |
特許 6531217 | 電気めっき浴の添加剤としてのモノアミン及びビス無水物の反応生成物とのジアミンの反応生成物 | 2019年 6月12日 | |
特許 6525373 | 下層のための芳香族樹脂 | 2019年 6月 5日 | |
特許 6525376 | オーバーコートされたフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物 | 2019年 6月 5日 |
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6558894 6553585 6553735 6554133 6549277 6549417 6550446 6545463 6543459 6538116 6539757 6535374 6531217 6525373 6525376
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