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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1079位 22件 (2023年:第1102位 23件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第1722位 11件 (2023年:第1078位 20件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-43506 | フォトレジスト下層組成物 | 2024年 3月29日 | |
特開 2024-19193 | 光酸発生剤、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 | 2024年 2月 8日 | |
特開 2024-16826 | メタライゼーション方法 | 2024年 2月 7日 | |
特開 2024-13218 | 光酸発生剤、フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 1月31日 | |
特開 2024-12132 | 光活性化合物、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 1月25日 | |
特開 2024-9902 | 芳香族下層 | 2024年 1月23日 | |
特開 2024-7404 | 銀電気めっき組成物及び粗面無光沢銀を電気めっきするための方法 | 2024年 1月18日 | |
特開 2024-4480 | メタライゼーション方法 | 2024年 1月16日 |
23 件中 16-23 件を表示
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2024-43506 2024-19193 2024-16826 2024-13218 2024-12132 2024-9902 2024-7404 2024-4480
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