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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5833631 | 光学検査システム中の1つ以上の検査パラメータの1つ以上の範囲を設定する方法 | 2015年12月16日 | |
特許 5816282 | 環形光照明器、ビーム整形器及び照明方法 | 2015年11月18日 | |
特許 5813692 | オーバレイ測定用の目盛校正曲線を生成する方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5808347 | プロセスツールの補正値を与える方法及びシステム | 2015年11月10日 | |
特許 5789353 | 半導体製造プロセスのための方法とシステム | 2015年10月 7日 | |
特許 5785571 | 試験体の測定または分析のためのシステム | 2015年 9月30日 | |
特許 5769729 | 過渡色中心形成の抑制及びフォノンポピュレーションの制御による光学材料におけるレーザー誘起損傷の軽減 | 2015年 8月26日 | |
特許 5763712 | 検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法及びシステム | 2015年 8月12日 | |
特許 5755304 | 動的に駆動されるステージミラー及びチャック組立体を備えるZステージ | 2015年 7月29日 | |
特許 5745045 | 入力媒体及び出力媒体の区画内に電子デバイスを配置する方法及び装置 | 2015年 7月 8日 | |
特許 5745899 | 試験体の測定のために構成されたシステム | 2015年 7月 8日 | |
特許 5722824 | 検出器と回路の飽和を避けることにより検査システムの熱破損を削減して、検出範囲を拡張するためのシステム、回路、方法 | 2015年 5月27日 | |
特許 5718786 | 1つ又は複数の欠陥関連の機能を遂行するコンピュータ実行方法 | 2015年 5月13日 | |
特許 5718849 | ウエハの特性決定のための方法とシステム | 2015年 5月13日 | |
特許 5714645 | 不良検出システムの改良 | 2015年 5月 7日 |
20 件中 1-15 件を表示
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5833631 5816282 5813692 5808347 5789353 5785571 5769729 5763712 5755304 5745045 5745899 5722824 5718786 5718849 5714645
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