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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第296位 118件
（
2021年：第424位 82件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第335位 90件
（
2021年：第239位 120件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7194786 | 計装基板装置及び方法 | 2022年12月22日 | |
| 特許 7194849 | 電子光学システム | 2022年12月22日 | |
| 特許 7193467 | マルチカラム走査電子顕微鏡法システム | 2022年12月20日 | |
| 特許 7193571 | 照明システム、照明システムを有する検査ツール、および照明システムを作動させる方法 | 2022年12月20日 | |
| 特許 7192056 | 光学装置 | 2022年12月19日 | |
| 特許 7189959 | 三次元半導体構造の可視化 | 2022年12月14日 | |
| 特許 7185772 | 金属封入光電陰極電子エミッタ | 2022年12月 7日 | |
| 特許 7184763 | 半導体ウェハ検査用三次元イメージング | 2022年12月 6日 | |
| 特許 7181211 | 厚膜及び高アスペクト比構造の計測方法及びシステム | 2022年11月30日 | |
| 特許 7181274 | 多色性軟Ｘ線回折に基づいた半導体計測のための方法およびシステム | 2022年11月30日 | |
| 特許 7179742 | 散乱計測オーバーレイターゲット及び方法 | 2022年11月29日 | |
| 特許 7177846 | オーバレイ及びエッジ配置誤差の計量及び制御 | 2022年11月24日 | |
| 特許 7177847 | 複数波長を用いたオーバーレイ測定 | 2022年11月24日 | |
| 特許 7177949 | 半導体デバイスにおけるパラメタ安定位置ずれ計測改善 | 2022年11月24日 | |
| 特許 7175319 | 荷電粒子ビーム計測システムの帯電効果と放射線損傷を最小化する走査戦略 | 2022年11月18日 |
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7194786 7194849 7193467 7193571 7192056 7189959 7185772 7184763 7181211 7181274 7179742 7177846 7177847 7177949 7175319
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