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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6801110 | 異方性誘電率を用いた半導体構造のモデル依拠光学計測 | 2020年12月16日 | |
特許 6797125 | 高スループットワークインプロセスバッファ用のシステム及び方法 | 2020年12月 9日 | |
特許 6793644 | プラズマベース光源 | 2020年12月 2日 | |
特許 6789295 | 偏光ターゲットおよび偏光照明を用いた回折光の振幅および位相の制御 | 2020年11月25日 | |
特許 6789428 | サンプルを検査する方法、センサ及びシステム | 2020年11月25日 | |
特許 6789920 | 被検査物上の関心対象領域の座標決定 | 2020年11月25日 | |
特許 6790099 | マルチビーム走査型顕微鏡システムの焦点調整方法及びシステム | 2020年11月25日 | |
特許 6790123 | 毛管凝縮を用いた半導体構造体の測定 | 2020年11月25日 | |
特許 6790144 | 193nmのレーザー検査システム | 2020年11月25日 | |
特許 6790248 | 高アスペクト比構造測定のための赤外分光反射計 | 2020年11月25日 | |
特許 6785663 | 検査のための高解像度フルダイイメージデータの使用 | 2020年11月18日 | |
特許 6785802 | パターン化ウェハ幾何計測を用いたプロセス誘起非対称性の検出、定量及び制御 | 2020年11月18日 | |
特許 6782834 | 広帯域光源を基にマルチチャネル可調照明を生成するシステム及び方法 | 2020年11月11日 | |
特許 6783298 | モデルベースのホットスポットモニタリング | 2020年11月11日 | |
特許 6779203 | 画像化計測ターゲットの品質推定および改善 | 2020年11月 4日 |
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6801110 6797125 6793644 6789295 6789428 6789920 6790099 6790123 6790144 6790248 6785663 6785802 6782834 6783298 6779203
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
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