ホーム > 特許ランキング > ケーエルエー−テンカー コーポレイション > 2020年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2020年 出願公開件数ランキング 第364位 101件
(
2019年:第411位 92件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第314位 86件
(
2019年:第331位 81件)
(ランキング更新日:2025年12月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6801110 | 異方性誘電率を用いた半導体構造のモデル依拠光学計測 | 2020年12月16日 | |
| 特許 6797125 | 高スループットワークインプロセスバッファ用のシステム及び方法 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6793644 | プラズマベース光源 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6789295 | 偏光ターゲットおよび偏光照明を用いた回折光の振幅および位相の制御 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6789428 | サンプルを検査する方法、センサ及びシステム | 2020年11月25日 | |
| 特許 6789920 | 被検査物上の関心対象領域の座標決定 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6790099 | マルチビーム走査型顕微鏡システムの焦点調整方法及びシステム | 2020年11月25日 | |
| 特許 6790123 | 毛管凝縮を用いた半導体構造体の測定 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6790144 | 193nmのレーザー検査システム | 2020年11月25日 | |
| 特許 6790248 | 高アスペクト比構造測定のための赤外分光反射計 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6785663 | 検査のための高解像度フルダイイメージデータの使用 | 2020年11月18日 | |
| 特許 6785802 | パターン化ウェハ幾何計測を用いたプロセス誘起非対称性の検出、定量及び制御 | 2020年11月18日 | |
| 特許 6782834 | 広帯域光源を基にマルチチャネル可調照明を生成するシステム及び方法 | 2020年11月11日 | |
| 特許 6783298 | モデルベースのホットスポットモニタリング | 2020年11月11日 | |
| 特許 6779203 | 画像化計測ターゲットの品質推定および改善 | 2020年11月 4日 |
86 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6801110 6797125 6793644 6789295 6789428 6789920 6790099 6790123 6790144 6790248 6785663 6785802 6782834 6783298 6779203
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。
12月17日(水) -
12月17日(水) -
12月17日(水) -
12月17日(水) -
12月17日(水) -
12月18日(木) -
12月18日(木) -
12月18日(木) -
12月19日(金) - 山口 山口市
12月19日(金) - 東京 千代田区
12月19日(金) - 大阪 大阪市
【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
12月19日(金) - 神奈川 川崎市
12月19日(金) -
12月19日(金) -
12月19日(金) -
12月19日(金) -
12月17日(水) -
12月22日(月) -
12月22日(月) -
12月23日(火) -
12月23日(火) -
12月23日(火) -
12月23日(火) -
12月23日(火) -
12月24日(水) -
12月24日(水) -
12月24日(水) -
12月25日(木) -
12月25日(木) -
12月22日(月) -
愛知県日進市岩崎町野田3-18 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒102-0072 東京都千代田区飯田橋4-1-1 飯田橋ISビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都武蔵野市吉祥寺本町1丁目35-14-202 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 鑑定 コンサルティング