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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第332位 104件
(2022年:第296位 118件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第345位 92件
(2022年:第335位 90件)
(ランキング更新日:2025年10月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7398432 | 半導体検査における多モードの欠陥分類 | 2023年12月14日 | |
特許 7398483 | 非対称ウエハ形状特徴付けのためのメトリック | 2023年12月14日 | |
特許 7394205 | 動的標本化プラン、最適化ウェハ計測経路及び最適化ウェハ輸送を伴い量子情報処理を用いるファブ管理 | 2023年12月 7日 | |
特許 7386884 | 光学分散の多次元モデル | 2023年11月27日 | |
特許 7379620 | 高空間分解能を有するX線ビームの特性評価のための方法及びシステム | 2023年11月14日 | |
特許 7379661 | 分子状汚染物及び粒子軽減のための真空アクチュエータ封入 | 2023年11月14日 | |
特許 7378530 | 計量ターゲットデザイン及び方法 | 2023年11月13日 | |
特許 7378538 | 測定ウェハ装置 | 2023年11月13日 | |
特許 7376588 | 全ウェハカバレッジ能力を有する超高感度ハイブリッド検査 | 2023年11月 8日 | |
特許 7376665 | 透過型小角X線散乱計量システム | 2023年11月 8日 | |
特許 7376666 | 透過型小角X線散乱計量システム | 2023年11月 8日 | |
特許 7373527 | ワークピースの欠陥検出装置及び方法 | 2023年11月 2日 | |
特許 7373644 | 透過及び反射光を組み合わせた半導体素子の内部クラックの撮像 | 2023年11月 2日 | |
特許 7369788 | 確率的レチクル欠陥処理 | 2023年10月26日 | |
特許 7369851 | オーバーレイ計測システム用の自動レシピ最適化 | 2023年10月26日 |
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7398432 7398483 7394205 7386884 7379620 7379661 7378530 7378538 7376588 7376665 7376666 7373527 7373644 7369788 7369851
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