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(
2018年:第343位 103件)
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(
2018年:第358位 78件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6626997 | 検査システム | 2019年12月25日 | |
| 特許 6618478 | 射影画像を用いた自動インライン検査及び計測 | 2019年12月11日 | |
| 特許 6617143 | 構造情報を用いた欠陥検出システム及び方法 | 2019年12月11日 | |
| 特許 6615120 | 高い水酸化物含有量を有する透過性部分を含む広帯域光源 | 2019年12月 4日 | |
| 特許 6612934 | フォトリソグラフィ用レチクルを検査するための検査システム及び方法 | 2019年11月27日 | |
| 特許 6609568 | 差分ダイおよび差分データベースを利用した検査 | 2019年11月20日 | |
| 特許 6608367 | 電界放出デバイス、システム及び方法 | 2019年11月20日 | |
| 特許 6602755 | 計測標的の偏光測定及び対応する標的設計 | 2019年11月 6日 | |
| 特許 6598914 | ウェハおよびレチクル検査システムならびに照明瞳配置を選択するための方法 | 2019年10月30日 | |
| 特許 6598774 | レーザ持続プラズマ照明出力により試料を撮像するためのシステム及び方法 | 2019年10月30日 | |
| 特許 6598782 | 位置敏感基板デバイス | 2019年10月30日 | |
| 特許 6598889 | システム的欠陥フィルターによるレチクル欠陥検査 | 2019年10月30日 | |
| 特許 6598790 | カスタマイズされたメトリックスをグローバル分類方法と組み合わせて極高処理能力でプロセスツール状態を監視するウエハおよびロットベースの階層化方法 | 2019年10月30日 | |
| 特許 6594979 | 光コンバイナ/スプリッタを有する二波長二重干渉計 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6594892 | イメージセンサ、検査システム及び製品を検査する方法 | 2019年10月23日 |
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6626997 6618478 6617143 6615120 6612934 6609568 6608367 6602755 6598914 6598774 6598782 6598889 6598790 6594979 6594892
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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