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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第411位 92件 (2018年:第363位 103件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6626997 | 検査システム | 2019年12月25日 | |
特許 6617143 | 構造情報を用いた欠陥検出システム及び方法 | 2019年12月11日 | |
特許 6618478 | 射影画像を用いた自動インライン検査及び計測 | 2019年12月11日 | |
特許 6615120 | 高い水酸化物含有量を有する透過性部分を含む広帯域光源 | 2019年12月 4日 | |
特許 6612934 | フォトリソグラフィ用レチクルを検査するための検査システム及び方法 | 2019年11月27日 | |
特許 6608367 | 電界放出デバイス、システム及び方法 | 2019年11月20日 | |
特許 6609568 | 差分ダイおよび差分データベースを利用した検査 | 2019年11月20日 | |
特許 6602755 | 計測標的の偏光測定及び対応する標的設計 | 2019年11月 6日 | |
特許 6598774 | レーザ持続プラズマ照明出力により試料を撮像するためのシステム及び方法 | 2019年10月30日 | |
特許 6598782 | 位置敏感基板デバイス | 2019年10月30日 | |
特許 6598790 | カスタマイズされたメトリックスをグローバル分類方法と組み合わせて極高処理能力でプロセスツール状態を監視するウエハおよびロットベースの階層化方法 | 2019年10月30日 | |
特許 6598889 | システム的欠陥フィルターによるレチクル欠陥検査 | 2019年10月30日 | |
特許 6598914 | ウェハおよびレチクル検査システムならびに照明瞳配置を選択するための方法 | 2019年10月30日 | |
特許 6594345 | ウェーハエッジ検出および検査 | 2019年10月23日 | |
特許 6594876 | フォトリソグラフィレチクル認定方法及びシステム | 2019年10月23日 |
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6626997 6617143 6618478 6615120 6612934 6608367 6609568 6602755 6598774 6598782 6598790 6598889 6598914 6594345 6594876
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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