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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第352位 92件
(
2024年:第311位 105件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第273位 106件
(
2024年:第286位 108件)
(ランキング更新日:2026年10月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7793014 | 設定可能焦点オフセットによって試料表面を追跡するための自動焦点調節システム | 2025年12月26日 | |
| 特許 7792027 | 非円形瞳を有する検査システム | 2025年12月24日 | |
| 特許 7788504 | 非線形光学結晶の不活性化方法 | 2025年12月18日 | |
| 特許 7787902 | 極端紫外線検査システムにおける汚染を軽減するための対向流ガスノズル | 2025年12月17日 | |
| 特許 7787155 | 放射劣化からの光学部品の光学材料の保護 | 2025年12月16日 | |
| 特許 7784532 | 走査スキャタロメトリオーバレイ計量 | 2025年12月11日 | |
| 特許 7784530 | 半導体測定品質の標的モニタリングのための方法及びシステム | 2025年12月11日 | |
| 特許 7784496 | 特性評価システム及び方法 | 2025年12月11日 | |
| 特許 7781893 | 高解像度の3次元撮像 | 2025年12月 8日 | |
| 特許 7778154 | ダイスクリーニングシステムおよび方法 | 2025年12月 1日 | |
| 特許 7774064 | 製品上オーバレイターゲット及びオーバレイ誤差を計測する方法 | 2025年11月20日 | |
| 特許 7774062 | プロセス条件検知装置 | 2025年11月20日 | |
| 特許 7774077 | ウェハボンディングツールによって誘起されるオーバーレイ歪みパターンを軽減するためのシステムおよび方法 | 2025年11月20日 | |
| 特許 7774080 | 多層試験試料の材料パラメータを決定する方法 | 2025年11月20日 | |
| 特許 7773630 | 小さなターゲットを使用して校正されるオーバーレイ誤差の測定 | 2025年11月19日 |
106 件中 1-15 件を表示
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7793014 7792027 7788504 7787902 7787155 7784532 7784530 7784496 7781893 7778154 7774064 7774062 7774077 7774080 7773630
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