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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第363位 103件
(2017年:第422位 98件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第358位 78件
(2017年:第472位 54件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6445867 | 小型高電圧電子銃 | 2018年12月26日 | |
特許 6440622 | サンプル検査システム検出器 | 2018年12月19日 | |
特許 6440804 | 照射サブシステム | 2018年12月19日 | |
特許 6442592 | ホウ素層を有するシリコン基板を含むフォトカソード | 2018年12月19日 | |
特許 6437000 | 浮動型フランジを備えるプラズマセル | 2018年12月12日 | |
特許 6437084 | レーザ維持プラズマバルブのための気体屈折補償 | 2018年12月12日 | |
特許 6437146 | システム的欠陥フィルターによるレチクル欠陥検査 | 2018年12月12日 | |
特許 6433522 | 独立的に調節可能な走査ピッチを有する表面走査検査システム | 2018年12月 5日 | |
特許 6425728 | 多チャネルウェハ裏面検査 | 2018年11月21日 | |
特許 6415523 | 光学的検査システム | 2018年10月31日 | |
特許 6410707 | 広範なダイナミックレンジを備えた光電子増倍管、検査システムおよび方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6410794 | 光維持プラズマにおける対流を制御するための方法及びシステム | 2018年10月24日 | |
特許 6411336 | 超紫外線レチクルの検査装置および方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6411504 | ウエハ検査システム内での基板表面の高速高度制御のための方法及びシステム | 2018年10月24日 | |
特許 6403675 | 最小ビームスポットの寸法および位置を決定するシステムおよび方法 | 2018年10月10日 |
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6445867 6440622 6440804 6442592 6437000 6437084 6437146 6433522 6425728 6415523 6410707 6410794 6411336 6411504 6403675
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