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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第424位 82件
(2020年:第364位 101件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件
(2020年:第314位 86件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6986555 | マルチカラム走査電子顕微鏡法システムにおけるアレイ型非点収差を修正するための装置及び方法 | 2021年12月22日 | |
特許 6983944 | 画像ベースの測定のための方法および測定システム | 2021年12月17日 | |
特許 6979404 | 円筒対称要素上を覆うターゲット素材を有するレーザ生成プラズマ光源 | 2021年12月15日 | |
特許 6979964 | 光学的計測における精度改良 | 2021年12月15日 | |
特許 6975799 | 低解像度検査画像から高分解能点拡がり関数を再構築するシステム及び方法 | 2021年12月 1日 | |
特許 6971322 | フォトマスク及びレチクル検査並びにウェハプリントチェック検証のためのマルチカラム間隔 | 2021年11月24日 | |
特許 6968221 | 半導体デバイスの側面の検査装置 | 2021年11月17日 | |
特許 6968793 | 円筒対称要素上にコーティングされたターゲット材を有するプラズマベース光源 | 2021年11月17日 | |
特許 6960462 | オーバレイ計量データの確率論的挙動の影響の判別 | 2021年11月 5日 | |
特許 6954980 | 光学検査システム、光学検査方法、及びレーザー | 2021年10月27日 | |
特許 6951512 | レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム | 2021年10月20日 | |
特許 6952025 | 電子源 | 2021年10月20日 | |
特許 6952033 | VUV光学素子の非接触サーマル測定 | 2021年10月20日 | |
特許 6952608 | 半導体工場自動化システムのパラメタを監視するシステム及び方法 | 2021年10月20日 | |
特許 6952711 | ターゲットデザイン方法、製造方法及び計量ターゲット | 2021年10月20日 |
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6986555 6983944 6979404 6979964 6975799 6971322 6968221 6968793 6960462 6954980 6951512 6952025 6952033 6952608 6952711
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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