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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第444位 78件
(2015年:第473位 71件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第483位 58件
(2015年:第1019位 20件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6055003 | 試験体上の欠陥を分類するためのコンピュータに実装された方法およびシステム | 2016年12月27日 | |
特許 6055768 | 焦点補正値汚染検査 | 2016年12月27日 | |
特許 6047566 | ウェハ検査 | 2016年12月21日 | |
特許 6049628 | 高損傷閾値周波数変換システム | 2016年12月21日 | |
特許 6041865 | ハイブリッドレチクル検査のための方法及びシステム | 2016年12月14日 | |
特許 6041878 | マルチスポット表面走査検査システムの大粒子検出 | 2016年12月14日 | |
特許 6042396 | 半導体のオーバーレイターゲットからオーバーレイを決定するシステム,その方法およびコンピュータプログラム | 2016年12月14日 | |
特許 6042442 | ウェーハ幾何形状メトリックを用いるオーバーレイ及び半導体プロセス制御 | 2016年12月14日 | |
特許 6038904 | 欠陥に関係する用途のための三次元表現の使用 | 2016年12月 7日 | |
特許 6041461 | 対物光学系、試料を検査するための装置および方法 | 2016年12月 7日 | |
特許 6032875 | リソグラフィ・プロセス制御のための方法およびシステム | 2016年11月30日 | |
特許 6032913 | リソグラフィ・プロセス制御のための方法およびシステム | 2016年11月30日 | |
特許 6026527 | ルーバを含むバックグラウンド低減システム | 2016年11月16日 | |
特許 6022458 | 欠陥検査およびフォトルミネセンス測定システム | 2016年11月 9日 | |
特許 6023116 | 検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法 | 2016年11月 9日 |
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6055003 6055768 6047566 6049628 6041865 6041878 6042396 6042442 6038904 6041461 6032875 6032913 6026527 6022458 6023116
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