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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第424位 82件 (2020年:第364位 101件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件 (2020年:第314位 86件)
(ランキング更新日:2024年11月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2021-503181 | 先進的機械学習技術を通じた計測正確度の自動最適化 | 2021年 2月 4日 | |
特表 2021-501886 | 視野サイズ削減による不要漏洩光低減 | 2021年 1月21日 | |
特表 2021-501469 | 極端に反ったウェハ用の基板ハンドリング装置 | 2021年 1月14日 | |
特表 2021-500702 | 半導体計測用の液体金属回転式アノードX線源 | 2021年 1月 7日 | |
特表 2021-500740 | 大オフセットダイ・ダイ検査用複数段階画像整列方法 | 2021年 1月 7日 | |
特表 2021-500742 | ダイ・ダイ検査用適応性ケアエリア | 2021年 1月 7日 | |
特開 2021-2531 | 光電子増倍管及びその製造方法 | 2021年 1月 7日 |
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2021-503181 2021-501886 2021-501469 2021-500702 2021-500740 2021-500742 2021-2531
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