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ケーエルエー−テンカー　コーポレイション

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　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第444位　78件（2015年：第473位　71件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第483位　58件（2015年：第1019位　20件）

（ランキング更新日：2024年11月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

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ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2016-540970	Ｘ線計測を使用する半導体デバイスのオーバーレイを測定するための方法及び装置	2016年12月28日
特開 2016-225652	表面計測ツールにおける改善された局部的特徴定量化のための方法及びシステム	2016年12月28日
特表 2016-538678	電子ビーム検査及びレビューにおける向上した欠陥検出	2016年12月 8日
特表 2016-538717	プロセス誘起による歪みの予測、ならびにオーバーレイ誤差のフィードフォワード及びフィードバック修正	2016年12月 8日
特表 2016-536609	多入射角半導体計測システム及び方法	2016年11月24日
特表 2016-536796	ウエハ検査システム内での基板表面の高速高度制御のための方法及びシステム	2016年11月24日
特開 2016-191719	設計ベースデバイスリスク評価	2016年11月10日
特表 2016-534341	改善した検出感度のマルチスポット照明	2016年11月 4日
特表 2016-534398	レーザ持続プラズマ照明出力により試料を撮像するためのシステム及び方法	2016年11月 4日
特表 2016-534510	レーザ励起光源においてポンプ（励起）光と集光光とを分離するためのシステム及び方法	2016年11月 4日
特表 2016-534536	非侵襲的荷電粒子ビームモニタ	2016年11月 4日
特表 2016-534537	ＳＥＭにおける向上した試料アクセスのためのノッチ付き磁気レンズ	2016年11月 4日
特表 2016-534550	ダイツーダイ検査のためのオートフォーカスシステム及び方法	2016年11月 4日
特表 2016-532902	マイクロリソグラフィパターン認定	2016年10月20日
特表 2016-533041	ＣＭＰによる障壁上に疎に分散された金属特徴のパターニングのためのダミー障壁層特徴	2016年10月20日

78 件中 1-15 件を表示

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2016-540970 2016-225652 2016-538678 2016-538717 2016-536609 2016-536796 2016-191719 2016-534341 2016-534398 2016-534510 2016-534536 2016-534537 2016-534550 2016-532902 2016-533041

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2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数

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