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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第424位 82件 (2020年:第364位 101件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件 (2020年:第314位 86件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2021-536594 | 光学システム内の保護剤としての蒸気及び寿命延長装置 | 2021年12月27日 | |
特表 2021-536680 | 制御された寸法を有する半導体ウェハフィーチャを製作するためのシステムおよび方法 | 2021年12月27日 | |
特表 2021-536135 | プロセス温度計測デバイス製造技術並びにその校正及びデータ補間方法 | 2021年12月23日 | |
特開 2021-193682 | 電子ビーム装置 | 2021年12月23日 | |
特開 2021-193683 | 電子源 | 2021年12月23日 | |
特表 2021-535445 | 非対称収差の推定 | 2021年12月16日 | |
特表 2021-535595 | 二回折次数撮像を用いるオフ軸照明オーバレイ計測 | 2021年12月16日 | |
特表 2021-533406 | ランプハウス補正を備えるプラズマ源 | 2021年12月 2日 | |
特表 2021-532347 | 半導体検査における多モードの欠陥分類 | 2021年11月25日 | |
特開 2021-182005 | ワークピースの欠陥検出装置及び方法 | 2021年11月25日 | |
特開 2021-182162 | デバイスの特性の予測方法及びシステム | 2021年11月25日 | |
特表 2021-531630 | 複数通りの波長を用いる複数作動距離高さセンサ | 2021年11月18日 | |
特表 2021-531663 | 位相解明光学及びX線半導体計量 | 2021年11月18日 | |
特表 2021-530677 | デュアル干渉法試料厚さ計 | 2021年11月11日 | |
特表 2021-530714 | クロマティック共焦点エリアセンサ | 2021年11月11日 |
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2021-536594 2021-536680 2021-536135 2021-193682 2021-193683 2021-535445 2021-535595 2021-533406 2021-532347 2021-182005 2021-182162 2021-531630 2021-531663 2021-530677 2021-530714
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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9月25日(水) - 東京 千代田区
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9月26日(木) -
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