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ケーエルエー−テンカー　コーポレイション

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ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2019-537745	メトロロジー測定に用いるためのプログラムされた欠陥を生成する方法およびシステム	2019年12月26日
特表 2019-537788	全測定不確かさの定量化および低減	2019年12月26日
特表 2019-537839	半導体用途向けに構成された深層学習モデルのための診断システムおよび方法	2019年12月26日
特表 2019-537228	電子ビームシステムにおける収差補正方法及びシステム	2019年12月19日
特表 2019-537263	貼り合わせウエハの計測	2019年12月19日
特表 2019-536057	Ｘ線スキャトロメトリシステムのフルビーム計測	2019年12月12日
特開 2019-212915	出力パルス光の生成方法	2019年12月12日
特表 2019-535023	光近接場計測	2019年12月 5日
特表 2019-535138	半導体ウエハ検査のための欠陥マーキング	2019年12月 5日
特表 2019-535143	半導体ウェハ検査用三次元イメージング	2019年12月 5日
特開 2019-208039	垂直スタックメモリにおいて欠陥深さを決定するための方法及びシステム	2019年12月 5日
特表 2019-534482	一体型メトロロジツールを有する機能性が強化されたリソグラフィシステム	2019年11月28日
特開 2019-200212	半導体試料内の瑕疵を検出又は精査するシステム	2019年11月21日
特表 2019-533312	パターニングされたウェハの特性評価のためのハイブリッド計量	2019年11月14日
特開 2019-197733	試料を検査する方法	2019年11月14日

92 件中 1-15 件を表示

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2019-537745 2019-537788 2019-537839 2019-537228 2019-537263 2019-536057 2019-212915 2019-535023 2019-535138 2019-535143 2019-208039 2019-534482 2019-200212 2019-533312 2019-197733

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