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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第411位 92件 (2018年:第363位 103件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第331位 81件 (2018年:第358位 78件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2019-537745 | メトロロジー測定に用いるためのプログラムされた欠陥を生成する方法およびシステム | 2019年12月26日 | |
特表 2019-537788 | 全測定不確かさの定量化および低減 | 2019年12月26日 | |
特表 2019-537839 | 半導体用途向けに構成された深層学習モデルのための診断システムおよび方法 | 2019年12月26日 | |
特表 2019-537228 | 電子ビームシステムにおける収差補正方法及びシステム | 2019年12月19日 | |
特表 2019-537263 | 貼り合わせウエハの計測 | 2019年12月19日 | |
特表 2019-536057 | X線スキャトロメトリシステムのフルビーム計測 | 2019年12月12日 | |
特開 2019-212915 | 出力パルス光の生成方法 | 2019年12月12日 | |
特表 2019-535023 | 光近接場計測 | 2019年12月 5日 | |
特表 2019-535138 | 半導体ウエハ検査のための欠陥マーキング | 2019年12月 5日 | |
特表 2019-535143 | 半導体ウェハ検査用三次元イメージング | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-208039 | 垂直スタックメモリにおいて欠陥深さを決定するための方法及びシステム | 2019年12月 5日 | |
特表 2019-534482 | 一体型メトロロジツールを有する機能性が強化されたリソグラフィシステム | 2019年11月28日 | |
特開 2019-200212 | 半導体試料内の瑕疵を検出又は精査するシステム | 2019年11月21日 | |
特表 2019-533312 | パターニングされたウェハの特性評価のためのハイブリッド計量 | 2019年11月14日 | |
特開 2019-197733 | 試料を検査する方法 | 2019年11月14日 |
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2019-537745 2019-537788 2019-537839 2019-537228 2019-537263 2019-536057 2019-212915 2019-535023 2019-535138 2019-535143 2019-208039 2019-534482 2019-200212 2019-533312 2019-197733
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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