特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ケーエルエー−テンカー　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第332位　104件（2022年：第296位　118件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第345位　92件（2022年：第335位　90件）

（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年

ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2023-183421	変調光源を備える光学計測ツール	2023年12月27日
特表 2023-554343	半導体デバイスにおける欠陥ベースの試験カバレッジギャップを自動的に識別するためのシステムおよび方法	2023年12月27日
特表 2023-554390	マルチビーム電子スキャン	2023年12月27日
特表 2023-552985	ポストボンディングオーバーレイを測定するシステムおよび方法	2023年12月20日
特表 2023-553053	オンザフライ散乱計測オーバーレイ計測ターゲット	2023年12月20日
特開 2023-178307	透過型小角Ｘ線散乱計量システム及び方法	2023年12月14日
特開 2023-174984	半導体デバイスの欠陥検出装置及び方法	2023年12月 8日
特表 2023-551163	複数の測定列を用いた大規模オーバレイ計測サンプリング	2023年12月 7日
特開 2023-168349	計量ターゲットの製造方法	2023年11月24日
特開 2023-168422	高アスペクト比構造の測定のための中赤外分光法及びシステム	2023年11月24日
特表 2023-549222	半導体装置の４つの辺を検査および計測するシステムおよび方法	2023年11月22日
特開 2023-165738	二回折次数撮像を用いるオフ軸照明オーバレイ計測	2023年11月17日
特表 2023-547990	半導体デバイス製造方法及び半導体製造アセンブリ用プロセス制御システム	2023年11月15日
特表 2023-547773	確率的フォトレジスト厚み欠陥の予測及び計量	2023年11月14日
特表 2023-547353	高度な反りサンプルの表面プロファイル計測	2023年11月10日

104 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2023-183421 2023-554343 2023-554390 2023-552985 2023-553053 2023-178307 2023-174984 2023-551163 2023-168349 2023-168422 2023-549222 2023-165738 2023-547990 2023-547773 2023-547353

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数