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ケーエルエー−テンカー コーポレイション

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  2023年 出願公開件数ランキング    第332位 104件 下降2022年:第296位 118件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第345位 92件 下降2022年:第335位 90件)

(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-183421 変調光源を備える光学計測ツール 2023年12月27日
特表 2023-554343 半導体デバイスにおける欠陥ベースの試験カバレッジギャップを自動的に識別するためのシステムおよび方法 2023年12月27日
特表 2023-554390 マルチビーム電子スキャン 2023年12月27日
特表 2023-552985 ポストボンディングオーバーレイを測定するシステムおよび方法 2023年12月20日
特表 2023-553053 オンザフライ散乱計測オーバーレイ計測ターゲット 2023年12月20日
特開 2023-178307 透過型小角X線散乱計量システム及び方法 2023年12月14日
特開 2023-174984 半導体デバイスの欠陥検出装置及び方法 2023年12月 8日
特表 2023-551163 複数の測定列を用いた大規模オーバレイ計測サンプリング 2023年12月 7日
特開 2023-168349 計量ターゲットの製造方法 2023年11月24日
特開 2023-168422 高アスペクト比構造の測定のための中赤外分光法及びシステム 2023年11月24日
特表 2023-549222 半導体装置の4つの辺を検査および計測するシステムおよび方法 2023年11月22日
特開 2023-165738 二回折次数撮像を用いるオフ軸照明オーバレイ計測 2023年11月17日
特表 2023-547990 半導体デバイス製造方法及び半導体製造アセンブリ用プロセス制御システム 2023年11月15日
特表 2023-547773 確率的フォトレジスト厚み欠陥の予測及び計量 2023年11月14日
特表 2023-547353 高度な反りサンプルの表面プロファイル計測 2023年11月10日

104 件中 1-15 件を表示

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2023-183421 2023-554343 2023-554390 2023-552985 2023-553053 2023-178307 2023-174984 2023-551163 2023-168349 2023-168422 2023-549222 2023-165738 2023-547990 2023-547773 2023-547353

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