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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第364位 101件
（
2019年：第411位 92件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第314位 86件
（2019年：第331位 81件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-205283 | 高効率レーザー維持プラズマシステム | 2020年12月24日 | |
| 特表 2020-537125 | 高反射積層膜上の高吸光膜層の光学的測定 | 2020年12月17日 | |
| 特表 2020-537287 | 電子ビーム生成および測定 | 2020年12月17日 | |
| 特表 2020-537288 | シリコン電子エミッタデザイン | 2020年12月17日 | |
| 特表 2020-537289 | 光電陰極設計、および光電陰極を使用して電子ビームを生成する方法 | 2020年12月17日 | |
| 特表 2020-537295 | ルテニウムで被包された光電陰極電子放出器 | 2020年12月17日 | |
| 特表 2020-537345 | 接地またはバイアスされたチャネルストップ接点を備えたイメージセンサ | 2020年12月17日 | |
| 特開 2020-201293 | 測定方法 | 2020年12月17日 | |
| 特開 2020-198306 | 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システム | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-535391 | Ｘ線依拠計量用高輝度クリーンＸ線源 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535445 | 計測ビーム安定化のためのシステムおよび方法 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535658 | 非対称構造の検出及び寸法計測 | 2020年12月 3日 | |
| 特開 2020-191458 | 測定ウェハ装置 | 2020年11月26日 | |
| 特表 2020-532122 | 透明又は半透明ウェハを対象にした欠陥検出 | 2020年11月 5日 | |
| 特表 2020-532127 | 薄膜オン格子及びバンドギャップオン格子の計測 | 2020年11月 5日 |
101 件中 1-15 件を表示
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2020-205283 2020-537125 2020-537287 2020-537288 2020-537289 2020-537295 2020-537345 2020-201293 2020-198306 2020-535391 2020-535445 2020-535658 2020-191458 2020-532122 2020-532127
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