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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第424位 82件 (2020年:第364位 101件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件 (2020年:第314位 86件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2021-517711 | 光陰極照射検査のためのシステム及び方法 | 2021年 7月26日 | |
特開 2021-103311 | モデルベースの限界寸法測定の方法およびシステム | 2021年 7月15日 | |
特開 2021-101194 | 照明システム、照明システムを有する検査ツール、および照明システムを作動させる方法 | 2021年 7月 8日 | |
特開 2021-101198 | 光計測において照明を提供するためのシステム | 2021年 7月 8日 | |
特表 2021-516366 | オーバレイ及びエッジ配置誤差の計量及び制御 | 2021年 7月 1日 | |
特表 2021-516448 | 三次元半導体構造の可視化 | 2021年 7月 1日 | |
特開 2021-99510 | 計測ターゲット、計測モジュール、及び計測方法 | 2021年 7月 1日 | |
特表 2021-515993 | プロセス誘起逸脱特性評価 | 2021年 6月24日 | |
特表 2021-515232 | 荷電粒子ビーム計測システムの帯電効果と放射線損傷を最小化する走査戦略 | 2021年 6月17日 | |
特開 2021-90064 | 画像を用いたモデル依拠計量システム及び方法 | 2021年 6月10日 | |
特表 2021-514057 | サンプル表面への斜入射角での検査光整形 | 2021年 6月 3日 | |
特開 2021-81446 | 物体の表面の光学的三次元トポグラフィ計測システム | 2021年 5月27日 | |
特開 2021-82606 | 電子ビーム画像化装置及び方法 | 2021年 5月27日 | |
特表 2021-513204 | 複数の電子ビームを発生させる光電陰極エミッタシステム | 2021年 5月20日 | |
特表 2021-511509 | 二次元ナノインデンテーション装置及び方法 | 2021年 5月 6日 |
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2021-517711 2021-103311 2021-101194 2021-101198 2021-516366 2021-516448 2021-99510 2021-515993 2021-515232 2021-90064 2021-514057 2021-81446 2021-82606 2021-513204 2021-511509
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