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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第370位 98件
（
2016年：第431位 78件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第472位 54件
（2016年：第482位 58件）
（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-228805 | ボロン層を有する裏面照光センサ | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228545 | レーザー維持プラズマ光源向けプラズマ・セル | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-227934 | 散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 | 2017年12月28日 | |
| 特表 2017-539078 | 製造プロセスラインに沿ったウェハの放射線および温度暴露を測定するための方法およびシステム | 2017年12月28日 | |
| 特表 2017-539076 | 構造情報を用いた欠陥検出 | 2017年12月28日 | |
| 特表 2017-538292 | ベロウズによる歪みウェハのチャッキング | 2017年12月21日 | |
| 特表 2017-538117 | ワークピース欠陥検出用の装置、方法及びコンピュータプログラム製品 | 2017年12月21日 | |
| 特表 2017-538113 | 光コンバイナ／スプリッタを有する二波長二重干渉計 | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-219870 | 安定性が向上されたＣＷ ＤＵＶレーザー | 2017年12月14日 | |
| 特開 2017-219851 | 薄膜スペクトル純度フィルタコーティングとともに画像センサを使用するＥＵＶ化学線レチクル検査システム | 2017年12月14日 | |
| 特表 2017-537317 | ランドスケープの解析および利用 | 2017年12月14日 | |
| 特開 2017-216466 | ビット不良および仮想検査を用いたウェハ検査プロセスの生成 | 2017年12月 7日 | |
| 特表 2017-536533 | 暗視野におけるＴＤＩセンサシステム | 2017年12月 7日 | |
| 特表 2017-536708 | 多様化と欠陥発見のためのダイナミック・ビニング | 2017年12月 7日 | |
| 特表 2017-535806 | １８３ｎｍのレーザーおよび検査システム | 2017年11月30日 |
98 件中 1-15 件を表示
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2017-228805 2017-228545 2017-227934 2017-539078 2017-539076 2017-538292 2017-538117 2017-538113 2017-219870 2017-219851 2017-537317 2017-216466 2017-536533 2017-536708 2017-535806
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