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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第333位 12件
（
2025年：第347位 91件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第419位 7件
（
2025年：第276位 102件）
（ランキング更新日：2026年2月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2026-505132 | 計測ツール群の生産性を監視する方法及びシステム | 2026年 2月12日 | |
| 特表 2026-504798 | 調節可能なフローティングディフュージョン構造を持つ画像センサ | 2026年 2月10日 | |
| 特表 2026-503885 | 試料上のアレイ領域内の欠陥の検出 | 2026年 2月 2日 | |
| 特表 2026-502437 | フッ化物系反射防止コーティングを有するホウ素被覆裏面照射型イメージセンサ | 2026年 1月23日 | |
| 特開 2026-9988 | 個片化半導体デバイスの欠陥検出装置及び方法 | 2026年 1月21日 | |
| 特表 2026-502024 | 共焦点センサを使用する極端紫外線源温度監視 | 2026年 1月21日 | |
| 特開 2026-9145 | 光学計測のための高輝度の照明源 | 2026年 1月19日 | |
| 特表 2026-501482 | 透明基板上に製造された構造の散乱計測に基づく計測のための方法およびシステム | 2026年 1月16日 | |
| 特表 2026-501033 | 検出器アレイを用いるマルチビーム電子顕微鏡検査のためのシステム及び方法 | 2026年 1月14日 | |
| 特表 2026-501036 | 第二高調波発生を使用した界面ベースの薄膜計測 | 2026年 1月14日 | |
| 特表 2026-500590 | 二次高調波生成を用いる界面依拠欠陥検査 | 2026年 1月 8日 | |
| 特表 2026-500064 | 異なるプロセスステップでのスペクトル差に基づく半導体構造の測定 | 2026年 1月 6日 |
12 件中 1-12 件を表示
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2026-505132 2026-504798 2026-503885 2026-502437 2026-9988 2026-502024 2026-9145 2026-501482 2026-501033 2026-501036 2026-500590 2026-500064
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