特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ケーエルエー−テンカー　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第298位　100件（2023年：第332位　104件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第294位　93件（2023年：第345位　92件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年

ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-542908	対向櫛型非線形結晶グレーティングを用いる周波数変換	2024年11月19日
特表 2024-542909	回折に基づく重ね合わせ誤差計測の改良された目標	2024年11月19日
特表 2024-542340	周波数変換に四硼酸ストロンチウムを用いる深紫外レーザ	2024年11月15日
特表 2024-542341	モノリシック光学リターダ	2024年11月15日
特開 2024-159775	特性評価システム	2024年11月 8日
特表 2024-539805	半導体製造のための連続機械学習モデルトレーニング	2024年10月31日
特開 2024-153787	非線形光学結晶の不活性化方法	2024年10月29日
特表 2024-539530	電磁コイルの均一な冷却のためのシステムおよび方法	2024年10月29日
特表 2024-538857	並列散乱計測オーバーレイ計測	2024年10月24日
特表 2024-538473	荷電粒子ツールのためのバンドパス荷電粒子エネルギフィルタリング検出器	2024年10月23日
特表 2024-538474	改善されたオーバーレイ誤差計測のための誘起変位	2024年10月23日
特表 2024-537955	レーザアニールパターンの抑制	2024年10月18日
特開 2024-147811	ＥＵＶ光を提供するフォトマスクを備えるシステム	2024年10月16日
特表 2024-537588	介在ミラープレートを用いる差分高さ計測	2024年10月16日
特表 2024-536956	マルチダイマスクの欠陥検出	2024年10月10日

100 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-542908 2024-542909 2024-542340 2024-542341 2024-159775 2024-539805 2024-153787 2024-539530 2024-538857 2024-538473 2024-538474 2024-537955 2024-147811 2024-537588 2024-536956

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数