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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第275位 98件
（
2025年：第352位 92件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第422位 49件
（
2025年：第273位 106件）
（ランキング更新日：2026年10月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2026-534841 | ＥＵＶリソグラフィにおける確率的欠陥を校正、予測、および制御する方法 | 2026年10月21日 | |
| 特表 2026-534640 | マルチカラム大視野撮像プラットフォーム | 2026年10月20日 | |
| 特表 2026-534553 | 電子部品用の一体型非接触洗浄および検査システムならびに方法 | 2026年10月16日 | |
| 特表 2026-534437 | インサイチュ走査型電子顕微鏡修復のための光学 | 2026年10月16日 | |
| 特表 2026-534405 | 半導体検査における走査型音響顕微鏡検査のための拡張モード | 2026年10月15日 | |
| 特表 2026-534013 | 集積回路レイアウトにおける繰返しジオメトリの範囲を自動的に見つける方法 | 2026年10月14日 | |
| 特表 2026-533973 | 任意の大きさのチャンバ内で真空汚染を原位置で測定および同定する方法 | 2026年10月14日 | |
| 特表 2026-533601 | 部分的に製作された半導体デバイスの構造測定に基づく電気性能予測 | 2026年10月 7日 | |
| 特表 2026-533359 | 加工物検査における数千個の電子ビームの結像 | 2026年10月 6日 | |
| 特表 2026-533225 | ＥＵＶリソグラフィにおける確率的欠陥を校正、予測、および制御するための方法 | 2026年10月 5日 | |
| 特表 2026-533096 | ＥＵＶリソグラフィにおける確率的欠陥を校正、予測、および制御するための方法 | 2026年10月 5日 | |
| 特表 2026-532734 | レーザ維持プラズマ広帯域光源用のサファイアランプ | 2026年10月 1日 | |
| 特表 2026-531903 | 画像アライメントのための定量的線形独立ベクトルベースの方法（ＱＬＩＶＢＭ） | 2026年 9月25日 | |
| 特表 2026-531766 | 局所変動検出のための空間変動型分光計測 | 2026年 9月24日 | |
| 特表 2026-531731 | 工程条件測定装置の製造および実装方法 | 2026年 9月24日 |
98 件中 1-15 件を表示
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2026-534841 2026-534640 2026-534553 2026-534437 2026-534405 2026-534013 2026-533973 2026-533601 2026-533359 2026-533225 2026-533096 2026-532734 2026-531903 2026-531766 2026-531731
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