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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第379位 113件
（
2016年：第396位 90件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第305位 95件
（2016年：第324位 97件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2017-515148 | 基板支持体、基板支持ロケーションに基板を搭載するための方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2017年 6月 8日 | |
| 特表 2017-515151 | リソグラフィ装置用のダイヤモンドベースの監視装置、およびダイヤモンドベースの監視装置を備えるリソグラフィ装置 | 2017年 6月 8日 | |
| 特開 2017-102470 | マルチステージシステムおよびリソグラフィ装置 | 2017年 6月 8日 | |
| 特開 2017-99277 | リラクタンスアクチュエータアセンブリの較正方法、リラクタンスアクチュエータ、リラクタンスアクチュエータを備えるリソグラフィ装置 | 2017年 6月 1日 | |
| 特開 2017-83883 | 放射源、リソグラフィ装置のための方法、およびデバイス製造方法 | 2017年 5月18日 | |
| 特開 2017-83911 | リソグラフィ装置 | 2017年 5月18日 | |
| 特表 2017-511892 | リソグラフィシステム | 2017年 4月27日 | |
| 特表 2017-511499 | センサシステム、基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置 | 2017年 4月20日 | |
| 特表 2017-510823 | 極端紫外光源 | 2017年 4月13日 | |
| 特開 2017-72861 | リソグラフィのためのメトロロジ | 2017年 4月13日 | |
| 特表 2017-509832 | サポートデバイス、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2017年 4月 6日 | |
| 特表 2017-509914 | ステージ位置決めシステムおよびリソグラフィ装置 | 2017年 4月 6日 | |
| 特表 2017-509916 | リソグラフィ装置、リソグラフィ装置においてオブジェクトを位置決めするための方法、及びデバイス製造方法 | 2017年 4月 6日 | |
| 特表 2017-510032 | アンジュレータ | 2017年 4月 6日 | |
| 特表 2017-510232 | コイルアセンブリ、電磁アクチュエータ、ステージ位置決め装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2017年 4月 6日 |
115 件中 76-90 件を表示
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2017-515148 2017-515151 2017-102470 2017-99277 2017-83883 2017-83911 2017-511892 2017-511499 2017-510823 2017-72861 2017-509832 2017-509914 2017-509916 2017-510032 2017-510232
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