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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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  2017年 出願公開件数ランキング    第379位 113件 上昇2016年:第396位 90件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第305位 95件 上昇2016年:第324位 97件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6253641 リフレクタ、ペリクル、リソグラフィマスク、膜、スペクトル純度フィルタ、および、装置 2017年12月27日
特許 6253647 静電クランプ、リソグラフィ装置及び方法 2017年12月27日
特許 6250067 極端紫外線光源内の光学素子に対する増幅光ビームの位置調整方法 2017年12月20日
特許 6250554 ソースコレクタデバイス、リソグラフィ装置、及び放射コレクタ 2017年12月20日
特許 6251282 リソグラフィ装置、基板支持システム、デバイス製造方法及び制御プログラム 2017年12月20日
特許 6251386 クリティカルディメンション関連特性を決定する方法、検査装置およびデバイス製造方法 2017年12月20日
特許 6251751 苛酷環境光学要素保護 2017年12月20日
特許 6251825 リソグラフィ装置、及び基板を搬送する方法 2017年12月20日
特許 6246330 アライメントセンサ、リソグラフィ装置およびアライメント方法 2017年12月13日
特許 6247325 リソグラフィ装置 2017年12月13日
特許 6243927 リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 2017年12月 6日
特許 6244454 リソグラフィ装置のための支持テーブル、リソグラフィ装置、及び、デバイス製造方法 2017年12月 6日
特許 6244462 リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置 2017年12月 6日
特許 6244485 放射源、リソグラフィ装置のための方法、およびデバイス製造方法 2017年12月 6日
特許 6240165 熱調整ユニット、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 2017年11月29日

97 件中 1-15 件を表示

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6253641 6253647 6250067 6250554 6251282 6251386 6251751 6251825 6246330 6247325 6243927 6244454 6244462 6244485 6240165

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