特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第331位　113件（2016年：第382位　90件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第305位　95件（2016年：第324位　97件）

（ランキング更新日：2026年10月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6253647	静電クランプ、リソグラフィ装置及び方法	2017年12月27日
特許 6253641	リフレクタ、ペリクル、リソグラフィマスク、膜、スペクトル純度フィルタ、および、装置	2017年12月27日
特許 6251825	リソグラフィ装置、及び基板を搬送する方法	2017年12月20日
特許 6251751	苛酷環境光学要素保護	2017年12月20日
特許 6251386	クリティカルディメンション関連特性を決定する方法、検査装置およびデバイス製造方法	2017年12月20日
特許 6251282	リソグラフィ装置、基板支持システム、デバイス製造方法及び制御プログラム	2017年12月20日
特許 6250554	ソースコレクタデバイス、リソグラフィ装置、及び放射コレクタ	2017年12月20日
特許 6250067	極端紫外線光源内の光学素子に対する増幅光ビームの位置調整方法	2017年12月20日
特許 6247325	リソグラフィ装置	2017年12月13日
特許 6246330	アライメントセンサ、リソグラフィ装置およびアライメント方法	2017年12月13日
特許 6244485	放射源、リソグラフィ装置のための方法、およびデバイス製造方法	2017年12月 6日
特許 6243927	リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2017年12月 6日
特許 6244454	リソグラフィ装置のための支持テーブル、リソグラフィ装置、及び、デバイス製造方法	2017年12月 6日
特許 6244462	リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置	2017年12月 6日
特許 6240165	熱調整ユニット、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法	2017年11月29日

97 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6253647 6253641 6251825 6251751 6251386 6251282 6250554 6250067 6247325 6246330 6244485 6243927 6244454 6244462 6240165

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数