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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6253641 | リフレクタ、ペリクル、リソグラフィマスク、膜、スペクトル純度フィルタ、および、装置 | 2017年12月27日 | |
特許 6253647 | 静電クランプ、リソグラフィ装置及び方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6250067 | 極端紫外線光源内の光学素子に対する増幅光ビームの位置調整方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6250554 | ソースコレクタデバイス、リソグラフィ装置、及び放射コレクタ | 2017年12月20日 | |
特許 6251282 | リソグラフィ装置、基板支持システム、デバイス製造方法及び制御プログラム | 2017年12月20日 | |
特許 6251386 | クリティカルディメンション関連特性を決定する方法、検査装置およびデバイス製造方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6251751 | 苛酷環境光学要素保護 | 2017年12月20日 | |
特許 6251825 | リソグラフィ装置、及び基板を搬送する方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6246330 | アライメントセンサ、リソグラフィ装置およびアライメント方法 | 2017年12月13日 | |
特許 6247325 | リソグラフィ装置 | 2017年12月13日 | |
特許 6243927 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2017年12月 6日 | |
特許 6244454 | リソグラフィ装置のための支持テーブル、リソグラフィ装置、及び、デバイス製造方法 | 2017年12月 6日 | |
特許 6244462 | リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置 | 2017年12月 6日 | |
特許 6244485 | 放射源、リソグラフィ装置のための方法、およびデバイス製造方法 | 2017年12月 6日 | |
特許 6240165 | 熱調整ユニット、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2017年11月29日 |
97 件中 1-15 件を表示
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6253641 6253647 6250067 6250554 6251282 6251386 6251751 6251825 6246330 6247325 6243927 6244454 6244462 6244485 6240165
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11月26日(火) - 東京 港区
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
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11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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