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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7792958 | メトロロジの方法及び関連装置 | 2025年12月26日 | |
| 特許 7792351 | 基板支持システム、リソグラフィ装置 | 2025年12月25日 | |
| 特許 7791177 | ウェハリソグラフィプロセスのためのウェハ保持装置を機械加工する方法および装置 | 2025年12月23日 | |
| 特許 7781874 | EUVスペクトル範囲用の2値強度マスク | 2025年12月 8日 | |
| 特許 7777194 | ペリクル及びペリクルアセンブリ | 2025年11月27日 | |
| 特許 7775283 | 荷電粒子装置用の高電圧フィードスルー及びコネクタ | 2025年11月25日 | |
| 特許 7774104 | 時間依存欠陥検査装置 | 2025年11月20日 | |
| 特許 7771333 | リソグラフィ装置及び照度均一性補正システム | 2025年11月17日 | |
| 特許 7767417 | 測定システム及びその使用方法 | 2025年11月11日 | |
| 特許 7767282 | 真空中における熱伝導性の増大 | 2025年11月11日 | |
| 特許 7767327 | ロバストな流体結合装置 | 2025年11月11日 | |
| 特許 7766761 | リソグラフィ装置用のペリクル膜 | 2025年11月10日 | |
| 特許 7765529 | 荷電粒子検査ツール、検査方法 | 2025年11月 6日 | |
| 特許 7764512 | 半導体検出器及びこれを製造する方法 | 2025年11月 5日 | |
| 特許 7761646 | リソグラフィ装置コンポーネントおよび方法 | 2025年10月28日 |
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7792958 7792351 7791177 7781874 7777194 7775283 7774104 7771333 7767417 7767282 7767327 7766761 7765529 7764512 7761646
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AI Native知財 - 私たちはどう生きるか? - 楠浦崇央 氏(TechnoProducer株式会社 代表取締役/発明塾 塾長) x 弁理士木本大介(リーガルテック株式会社アドバイザー)
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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