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トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド

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トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-531264	超臨界流体計測のためのラマンセンサ	2024年 8月29日
特表 2024-530861	多方向作動膜を用いたウェーハ形状を調整する方法	2024年 8月27日
特表 2024-530963	極紫外線リソグラフィパターニング方法	2024年 8月27日
特表 2024-530708	固体拡散による極浅ドーパント及びオーミックコンタクト領域	2024年 8月23日
特表 2024-530230	パターン形成方法	2024年 8月16日
特開 2024-109728	狭小トレンチを形成する方法	2024年 8月14日
特表 2024-524842	調整可能な電気的特性を有するプラズマ処理装置	2024年 7月 9日
特表 2024-524853	二層系を用いた向上したフリージングレスアンチスペーサ形成による材料被覆膜を除去するための方法	2024年 7月 9日
特表 2024-523510	自己組織化単分子層を使用する選択的な膜形成	2024年 6月28日
特表 2024-523059	浴システム及びその方法	2024年 6月26日
特表 2024-522986	コンタクトエッチング用の犠牲キャップ層	2024年 6月25日
特表 2024-522485	極端紫外線パターニングのための有機金属膜	2024年 6月21日
特表 2024-522687	ウェーハ浴イメージング	2024年 6月21日
特表 2024-521844	半導体構造の処理中に金属をエッチングすること	2024年 6月 4日
特表 2024-521903	繰り返しプラズマ処理	2024年 6月 4日

53 件中 16-30 件を表示

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2024-531264 2024-530861 2024-530963 2024-530708 2024-530230 2024-109728 2024-524842 2024-524853 2024-523510 2024-523059 2024-522986 2024-522485 2024-522687 2024-521844 2024-521903

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