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日新イオン機器株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第1406位 18件 上昇2018年:第1925位 11件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第1635位 10件 下降2018年:第1497位 12件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2019-537816 イオン源 2019年12月26日
特開 2019-212598 イオンビーム照射装置 2019年12月12日
特開 2019-200975 イオン源 2019年11月21日
特開 2019-186104 イオン源、イオンビーム照射装置及びイオン源の運転方法 2019年10月24日
特開 2019-169327 イオン源、イオンビーム照射装置 2019年10月 3日
特開 2019-145773 半導体素子を製造する方法及びイオン注入装置 2019年 8月29日
特開 2019-139950 イオン源、イオン注入装置 2019年 8月22日
特開 2019-96459 フラットパネルディスプレイ製造装置 2019年 6月20日
特開 2019-67488 イオン源およびイオン注入装置 2019年 4月25日
特開 2019-61858 イオン源、イオン源の運転方法 2019年 4月18日
特開 2019-62080 半導体製造方法 2019年 4月18日
特開 2019-57385 イオン源支持台 2019年 4月11日
特開 2019-46627 イオンビーム照射装置 2019年 3月22日
特開 2019-47038 パーティクル診断方法及びパーティクル診断装置 2019年 3月22日
特開 2019-36478 イオン源 2019年 3月 7日

19 件中 1-15 件を表示

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2019-537816 2019-212598 2019-200975 2019-186104 2019-169327 2019-145773 2019-139950 2019-96459 2019-67488 2019-61858 2019-62080 2019-57385 2019-46627 2019-47038 2019-36478

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