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日新イオン機器株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1406位 18件
（
2018年：第1925位 11件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1635位 10件
（
2018年：第1497位 12件）
（ランキング更新日：2025年6月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2019-537816 | イオン源 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-212598 | イオンビーム照射装置 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-200975 | イオン源 | 2019年11月21日 | |
| 特開 2019-186104 | イオン源、イオンビーム照射装置及びイオン源の運転方法 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-169327 | イオン源、イオンビーム照射装置 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-145773 | 半導体素子を製造する方法及びイオン注入装置 | 2019年 8月29日 | |
| 特開 2019-139950 | イオン源、イオン注入装置 | 2019年 8月22日 | |
| 特開 2019-96459 | フラットパネルディスプレイ製造装置 | 2019年 6月20日 | |
| 特開 2019-67488 | イオン源およびイオン注入装置 | 2019年 4月25日 | |
| 特開 2019-61858 | イオン源、イオン源の運転方法 | 2019年 4月18日 | |
| 特開 2019-62080 | 半導体製造方法 | 2019年 4月18日 | |
| 特開 2019-57385 | イオン源支持台 | 2019年 4月11日 | |
| 特開 2019-46627 | イオンビーム照射装置 | 2019年 3月22日 | |
| 特開 2019-47038 | パーティクル診断方法及びパーティクル診断装置 | 2019年 3月22日 | |
| 特開 2019-36478 | イオン源 | 2019年 3月 7日 |
19 件中 1-15 件を表示
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2019-537816 2019-212598 2019-200975 2019-186104 2019-169327 2019-145773 2019-139950 2019-96459 2019-67488 2019-61858 2019-62080 2019-57385 2019-46627 2019-47038 2019-36478
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