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日新イオン機器株式会社

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  2024年 出願公開件数ランキング    第1272位 18件 上昇2023年:第1976位 11件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第2210位 8件 下降2023年:第1516位 13件)

(ランキング更新日:2025年1月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-178066 イオン注入装置 2024年12月24日
特開 2024-173656 イオン注入装置及びイオン注入方法 2024年12月12日
特開 2024-154244 イオン注入装置 2024年10月30日
特開 2024-139099 イオンビーム照射方法及びイオンビーム照射装置 2024年10月 9日
特開 2024-139688 プラズマ源 2024年10月 9日
特開 2024-122500 イオンビーム引出用電極、イオン源及び引出電極系 2024年 9月 9日
特開 2024-106815 基板支持台および基板保持装置 2024年 8月 8日
特開 2024-86076 クライオポンプシステム、半導体製造装置、クライオポンプの再生方法 2024年 6月27日
特開 2024-80209 気化器、イオン源、半導体製造装置及び気化器の運転方法 2024年 6月13日
特開 2024-55249 イオン源およびイオン注入装置 2024年 4月18日
特開 2024-48246 イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法 2024年 4月 8日
特開 2024-37341 薄膜トランジスタの製造方法 2024年 3月19日
特開 2024-27945 イオンビーム照射装置 2024年 3月 1日
特開 2024-21231 イオン源 2024年 2月16日
特開 2024-19799 イオン源及びその運転方法 2024年 2月14日

18 件中 1-15 件を表示

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2024-178066 2024-173656 2024-154244 2024-139099 2024-139688 2024-122500 2024-106815 2024-86076 2024-80209 2024-55249 2024-48246 2024-37341 2024-27945 2024-21231 2024-19799

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